한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2006년도 하계학술대회 논문집 Vol.7
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- Pages.8-9
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- 2006
열처리 조건에 따른 $HfO_2$ /Hf/Si 박막의 MOS 커패시터 특성
Characterization of $HfO_2$ /Hf/Si MOS Capacitor with Annealing Condition
- Lee, Dae-Gab (Kyungpook National Univ.) ;
- Do, Seung-Woo (Kyungpook National Univ.) ;
- Lee, Jae-Sung (Uiduk Univ.) ;
- Lee, Yong-Hyun (Kyungpook National Univ.)
- 발행 : 2006.06.22
초록
Hafnium oxide (