The study on the Separation of Waste acid containing Acetic acid, Hydrofluoric acid and Nitric acid

초산, 불산 및 질산을 함유한 폐혼산의 분리 연구

Recovery of acids from the waste etching solution of containing nitric, hydrofluoric and acetic acid discharged from silicon wafer manufacturing process has been attempted by using solvent extraction method. With EHA (2-Ethylhexlalcohol) for acetic acid and TBP(Tri-butly Phosphate) for nitic and hydrofluoric acid as extraction agent was carried on experiment to obtain the process design data in separation procedure. From the McCabe-Thiele diagram analysis, we obtained the optimum conditions of phase ratio(O/A) and stages to separate the each acid sequently from the mixture acids. The recovery yield was obtained 90% above for acetic acid from the acid mixtures, 90% above for nitric acid from acetic acid extraction raffinate and then 67% above for hydrofluoric acid from final extraction raffinate.

실리콘웨이퍼 제조공정에서 발생되는 초산, 불산 및 질산을 함유한 3성분계 폐혼산으로부터 각 산을 분리하여 무기산으로 재활용하기 위하여 용매추출법을 적용하였다. 이러한 산을 선택적으로 분리하기 위해 추출제로 초산의 경우는 EHA(2-Ethylhexlalcohol)를 사용 하였으며 질산과 불산의 경우에는 TBP(Tri -butlyphosphate)를 사용하여 추출과정과 탈거과정에 대한 공정설계를 위한 기초 실험을 실시하였다. 3성분계 페혼산에서 먼저 초산을 추출 분리하고, 추출여액중 질산 및 불산을 순차적으로 연속 분리 할 수 있는 공정개발을 위하여 McCabe-Thiele해석을 통해 최적 투입유량비(O/A), 소요단수(Stage) 등을 결정하였다. 분석 결과 혼산으로부터 초산의 회수율은 90%이상 이었으며 초산추출여액에서 질산의 회수율은 90%이상, 최종 추출잔류액에서 불산의 회수율은 67%이상 이었다.