Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

The Study of Atomic Layer Etching Mechanism using Substrate Orientation of Si and Variation of Surface Roughness

Silicon 기판의 방향과 표면 roughness 변화를 통한 Atomic Layer Etching 메커니즘의 연구

  • 오창권 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 박상덕 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 염근영 (성균관대학교 신소재공학과)
  • Published : 2005.11.04
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