한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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- Pages.645-646
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- 2005
CMP 공정중 TEOS 막의 슬러리 온도 변화에 따른 표면 분석 연구
Study on Surface Analysis of TEOS Film by Change of Slurry Temperature in CMP Process
- Ko, Pil-Ju (Chosun Univ.) ;
- Kim, Nam-Hoon (Chosun Univ.) ;
- Seo, Yong-Jin (Daebul Univ.) ;
- Lee, Woo-Sun (Chosun Univ.)
- 발행 : 2005.07.07
초록
The increasing hydroxyl (
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