한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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- Pages.35-37
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- 2005
나노 세리아 입자가 표면 코팅된 콜로이달 실리카 슬러리의 Oxide film 연마특성
Polishing of Oxide film by colloidal silica coated with nano ceria
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Kim, Hwan-Chul
(Korea Institute of Ceramic ENG. & Tech.) ;
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Lee, Seung-Ho
(Korea Institute of Ceramic ENG. & Tech.) ;
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Kim, Dae-Sung
(Korea Institute of Ceramic ENG. & Tech.) ;
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Lim, Hyung-Mi
(Korea Institute of Ceramic ENG. & Tech.)
- 발행 : 2005.07.07
초록
100, 200nm 크기의 colloidal silica 각각에 나노 ceria 입자를 수열합성법으로 코팅하였다. Colloidal silica 입자에 ceria를 코팅 시 slurry의 pH조절과 수열처리에 이용하여 silica에 ceria가 코팅됨을 TEM과 zeta-potential을 이용하여 확인하였다. 연마 슬러리의 분산 안정성과 연마효율을 높이기 위하여 슬러리의 pH 는 9로 하였으며, 이때의 zeta-potential 값은 -25 mV이었다. 1 wt%로 제조된 연마슬러리를 이용하여, 4 inch