Effects of Impurity Concentration in Channel of LDMOSFET on the Electrical Characteristics of CMOS Circuit

LDMOSFET에서 채널의 불순물 농도변화에 의한 CMOS회로의 전기적 특성

  • Cui, Zhi-Yuan (School of Electrical and Electronics Engineering, Chungbuk National University) ;
  • Kim, Nam-Soo (School of Electrical and Electronics Engineering, Chungbuk National University) ;
  • Lee, Hyung-Gyoo (School of Electrical and Electronics Engineering, Chungbuk National University)
  • 최지원 (충북대학교 전기전자 공학부) ;
  • 김남수 (충북대학교 전기전자 공학부) ;
  • 이형규 (충북대학교 전기전자 공학부)
  • Published : 2005.07.07

Abstract

2 차원 MEDICI 시뮬레이터를 이용하여 CMOS 회로의 전기적 특성을 조사하였다. CMOS 인버터 회로는 LDMOSFET를 이용하였는데, LDMOSFET에서 전류 및 스위칭 특성에 많은 영향을 주는 곳은 채널이라고 생각되는데, 채널에서의 불순물 농도 변화에 의한 CMOS 회로의 voltage transfer특성, low input voltage($V_{IL}$), high input voltage($V_{IH}$)등을 조사하였다. LDMOSFET에서 N 채널의 농도는 $V_{IL}$에, P 채널의 농도는 $V_{IH}$에 많은 영향을 주었다.

Keywords