Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference (한국정보통신학회:학술대회논문집)
- Volume 9 Issue 1
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- Pages.985-989
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- 2005
Reactive Ion Etching of Amorphous Semiconductor and Insulator
비정질 반도체 및 절연체의 Reactive Ion Etching
- Hur, Chang-Wu (Mokwon University) ;
- Lee, Kyu-Chung (Sungkyul University)
- Published : 2005.05.27
Abstract
본 논문에서는 비정질 반도체 및 절연체의 etching을 RIE를 사용하여 etching 조건을 결정하는 요인(chamber pressure, gas flow rate, rf power, 온도 등)들을 변화시켜 실험하였고, gas는 비정질 실리콘 박막의 reactive ion etching에 주로 사용되는