열처리 조건에 따른 Pentacene 성장과 화학반응에 대한 연구

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  • 손재구 (청주대학교 전자정보 공학부 PVD Lab.) ;
  • 권학용 (청주대학교 전자정보 공학부 PVD Lab.) ;
  • 김홍배 (청주대학교 전자정보 공학부 PVD Lab.)
  • 발행 : 2005.09.01

초록

Pentacene channel OTFT(organic thin film transistor)을 SiOC 절연박막 위에서 film by thermal evaporation 방법을 이용하여 성장시켰다. CVD 방법으로 증착시킨 SiOC 절연막은 조성비에 따라 특성이 달라지므로 절연막 위에서의 펜타센의 화학적 반응을 조사하기 위해서 inorganic-type인 $O_2/(BTMSM\;+\;O_2)$ = 0.5의 비율을 갖는 SiOC 박막을 사용하였다. 팬타센 분자의 말단에서 SiOC 표면에서 Diels-Alder 반응에 의한 이중결합이 깨어지면서 안정된 성장을 하지만 온도가 높아감에 따라 표면에서의 $SN_2$(bimolecular nucleophilic substitution) 반응과 연쇄적인 화학반응에 의해 팬타센의 성장을 방해하는 것으로 나타났다.

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