트렌치 구조를 이용한 GaN 쇼트키 장벽 다이오드

GaN Schottky Barrier Diode Employing a Trench Structure

  • 최영환 (서울대학교 공과대학 전기컴퓨터공학부) ;
  • 하민우 (서울대학교 공과대학 전기컴퓨터공학부) ;
  • 이승철 (서울대학교 공과대학 전기컴퓨터공학부) ;
  • 한민구 (서울대학교 공과대학 전기컴퓨터공학부)
  • Choi, Young-Hwan (School of Electrical Engineering, Seoul National University) ;
  • Ha, Min-Woo (School of Electrical Engineering, Seoul National University) ;
  • Lee, Seung-Chul (School of Electrical Engineering, Seoul National University) ;
  • Han, Min-Koo (School of Electrical Engineering, Seoul National University)
  • 발행 : 2005.07.18

초록

트렌치 애노드 컨택을 설계하여 순방향 전압강하를 감소시키는 GaN 쇼트키 장벽 다이오드를 제안하였다. 애노드 내부에 트렌치를 설계하여 제안된 소자의 표면 애노드 컨택은 메탈 일 함수(metal work function)가 높은 Pt와 형성되며, 트렌치 애노드 컨택은 메탈 일 함수가 낮은 Au와 형성된다. 제안된 소자의 전기적 특성을 검증하기 위하여 2차원 수치 해석 시뮬레이션을 수행하였고, AlGaN/GaN 혜테로 접합 구조 위에 제작 및 측정하였다. 제안된 소자는 복잡한 공정 추가 없이 제작되며 $100A/cm^2$에서의 순방향 전압 강하는 0.73V로 기존 소자의 1.25V보다 우수한 특성을 보였다. 제안된 소자의 온 저항은 $1.58m{\Omega}cm^2$로 기존 소자의 온 저항 $8.20m{\Omega}cm^2$ 보다 낮은 장점을 가진다.

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