MIM Capacitor 적용을 위한 하부 금속에 따른 $ALD-Al_{2}O_3$ 박막 증착과 특성 분석

• O, Jeong-Ik ;
• Do, Seung-U ;
• Go, Seong-Yong ;
• Jeong, Yeong-Cheol ;
• Lee, Yong-Hyeon

• 오정익 (경북대학교 전자전기컴퓨터학부) ;
• 도승우 (경북대학교 전자전기컴퓨터학부) ;
• 고성용 (경북대학교 전자전기컴퓨터학부) ;
• 정영철 (경주대학교 컴퓨터전자공학부) ;
• 이용현 (경북대학교 전자전기컴퓨터학부)

• Published : 2004.08.19

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