XPS Depth profiling of Ultra Thin Oxynitride Film

  • 홍태은 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 연태원 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 김종훈 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 고중규 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 정칠성 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 박윤백 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀) ;
  • 이순영 (하이닉스 반도체(주) 메모리연구소 분석개발팀)
  • Published : 2004.08.19