Nano급 High-Aspect-Ratio-Contact(HARC) 에칭에 대한 연구

  • 민경진 (삼성전자 반도체 연구소 공정개발팀) ;
  • 박성찬 (삼성전자 반도체 연구소 공정개발팀) ;
  • 신철호 (삼성전자 반도체 연구소 공정개발팀) ;
  • 강창진 (삼성전자 반도체 연구소 공정개발팀) ;
  • 조한구 (삼성전자 반도체 연구소 공정개발팀)
  • Published : 2004.08.19