TCP-PECVD를 이용한 n-type 마이크로결정질 실리콘 박막형성에 공정조건이 미치는 영향

The Effect of Process Conditions for Formation of n-type Microcrystalline Silicon Thin Films by TCP-PECVD

  • 이형철 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이유진 (전자부품연구원 나노정보에너지연구센터) ;
  • 신진국 (전자부품연구원 나노정보에너지연구센터) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과)
  • 발행 : 2004.05.14