Laser를 이용하지 않는 비정질 실리콘 박막의 극저온결정화

Extremely low-temperature crystallization of amorphous silicon film using non-laser crystallization process

  • 신종배 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 김병수 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 최덕균 (한양대학교 세라믹공학과)
  • 발행 : 2004.05.14