Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 2004.07c
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- Pages.1697-1699
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- 2004
A study of properties which the diffusion barrier Ta and IMD(Inter-Metal Dielectric) metrial SiOCH for $Cu^+$ ion diffusion
구리이온의 확산에 대한 IMD(Inter-Metal Dielectric)용 Low-k 물질인 SiOCH와 diffusion barrier Ta의 특성에 관한 연구
- Kim, J.W. (Electrical Electronic and Materials Lab, Myong Ji University) ;
- Song, J.H. (Electrical Electronic and Materials Lab, Myong Ji University) ;
- Choi, Y.H. (Electrical Electronic and Materials Lab, Myong Ji University) ;
- Kim, J.G. (Electrical Electronic and Materials Lab, Myong Ji University) ;
- Lee, H.Y. (Electrical Electronic and Materials Lab, Myong Ji University)
- 김정우 (명지대학교 전기공학과 전기전자재료연구실) ;
- 송진형 (명지대학교 전기공학과 전기전자재료연구실) ;
- 최용호 (명지대학교 전기공학과 전기전자재료연구실) ;
- 김지균 (명지대학교 전기공학과 전기전자재료연구실) ;
- 이헌용 (명지대학교 전기공학과 전기전자재료연구실)
- Published : 2004.07.14
Abstract
In this investigation, we have studied the diffusion of the
Keywords