한국전기화학회:학술대회논문집
- 한국전기화학회 2004년도 춘계총회 및 학술발표회
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- Pages.34-34
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- 2004
Ceria 슬러리를 이용한 STI CMP의 나노토포그래피의 영향과 평탄화 효과
Nanotopography Impact and Planarization Efficiency of Ceria Slurry for STI-CMP
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PARK Jin-Hyung
(Nano-SOI Process Laboratory, Hanyang University)
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- KATOH Takeo (Nano-SOI Process Laboratory, Hanyang University) ;
- KANG Hyun-Goo (Nano-SOI Process Laboratory, Hanyang University) ;
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PAIK Ungyu
(Department of Ceramic Engineering, Hanyang University)
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PARK Jea-Gun
(Nano-SOI Process Laboratory, Hanyang University)
- 발행 : 2004.04.01