한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2003년도 추계학술대회 논문집 Vol.16
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- Pages.415-417
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- 2003
증착속도에 따른 CSI layer의 기하학적 특성 연구
Investigation of Geometrical Properties on Deposition Rate in Cesium Iodine Film
- 이규홍 (인제대학교 의용공학과) ;
- 박지군 (인제대학교 의용공학과) ;
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강상식
(인제대학교 의용공학과) ;
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차병열
(인제대학교 의용공학과) ;
- 조성호 (인제대학교 의용공학과) ;
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남상희
(인제대학교 의용공학과)
- Lee, Kyu-Hong (Department of Biomedical Engineering) ;
- Park, Ji-Koon (Department of Biomedical Engineering) ;
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Kang, Sang-Sik
(Department of Biomedical Engineering) ;
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Cha, Byung-Yul
(Department of Biomedical Engineering) ;
- Cho, Sung-Ho (Department of Biomedical Engineering) ;
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Nam, Sang-Hee
(Department of Biomedical Engineering)
- 발행 : 2003.11.13
초록
CsI 형광체는 X선에 대한 분해능 및 변환효율이 우수한 물질이다. 최근 대면적 평판형 X선 영상검출기의 변환층으로 이용하기 위해 CsI 형광체의 대면적 제조에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 논문은 진공 열증착법을 이용하여 증착속도(3, 3.8,