한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2003년도 추계학술대회 논문집 Vol.16
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- Pages.11-14
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- 2003
게이트 유전체 적용을 위한 플라즈마를 이용해 질화된 $HfO_2$ 박막의 특성 평가
Characterization of Nitrided $HfO_2(HfO_xN_y)$ for Gate Dielectric Application using Plasma
- Kim,, Jeon-Ho (Chungnam Nat'l Univ) ;
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Choi, Kyu-Jeong
(Chungnam Nat'l Univ) ;
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Yoon, Soon-Gil
(Chungnam Nat'l Univ) ;
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Lee, Won-Jae
(Dong-Eui Univ)
- 발행 : 2003.11.13
초록
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