Fabrication and Etching of Nano-probe Slide covered with $Si_3$$N_4$ by RIE

RIE를 이용한 $Si_3$$N_4$막이 증착된 나노 탐침의 식각 및 제작

근접장 측정에서 가장 많이 쓰이는 근접장 광섬유 탐침은 몇가지 단점을 가지고 있다. 단점 중 하나는 광 전달율이 매우 낮다는 점이다. 전형적으로 근접장 광섬유 탐침의 aperture가 100nm일때 빛이 통과할 때의 광 전달율은 $10^{-5}$만큼 떨어진다. 그리고 sample과 probe간의 수십 nm의 근접장거리를 유지하기 위해 복잡한 장치가 필요하다는 점이다. 이러한 단점을 보완하여 본 연구실에서는 근접장 측정에서 핵심이 되는 근접장 광섬유 탐침의 새로운 개념인 나노 탐침 제작을 연구하였다. (중략)