Removal effect of particles from wafers with plasma position during laser shock cleaning process

Laser 충격파 세정에서 플라즈마 생성 위치에 따른 오염 입자 제거 효과

  • 강영재 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 이상호 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 박진구 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 이종명 (㈜아이엠티, 레이저응용그룹) ;
  • 김태훈 (연세대학교 금속공학과)
  • Published : 2003.05.01