한국산학기술학회:학술대회논문집 (Proceedings of the KAIS Fall Conference)

한국산학기술학회 (The Korea Academia-Industrial cooperation Society)
권호 표지

Metal과 Contact Layer Patterning을 위한 규칙기반 OPC 및 ORC Approach

Rule-based OPC and ORC Approach for Metal and Contact Layer Patterning

  • 이미영 (상명대학교 컴퓨터시스템공학) ;
  • 이우희 (상명대학교 컴퓨터시스템공학) ;
  • 이준하 (상명대학교 컴퓨터시스템공학) ;
  • 이흥주 (상명대학교 컴퓨터시스템공학)
  • 발행 : 2003.06.01
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초록

Scale down으로 인해 부족해진 overlay margin을 통해 충분히 확보해주고, 이와 동시에 attPSM(attenuated phase shift)의 사용으로 발생하는 side-lobe 현상을 억제하기 위한 방법으로 rule-based OPC(optical proximity correction)룰 사용하여 side-lobe만을 효과적으로 추출한 후, 그 자리에 scattering bar를 삽입하였다. 그리고 ORC(optical rule checking)를 통해 original layout과 aerial image의 EPEs(edge placement errors)를 검사하여 검증에 걸리는 시간을 감소시켰다.

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