N$_2$와 $SiH_4$ 가스를 사용하여 PECVD로 증착된 Silicon Nitride의 FT-IR spectra 분석과 전기적 특성 분석

• 고재경 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부 신소재연구실) ;
• 박중현 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부 신소재연구실) ;
• 김도영 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부 신소재연구실) ;
• 김경해 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부 신소재연구실) ;
• 이준신 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부 신소재연구실)

• Go, Jae-Gyeong ;
• Park, Jung-Hyeon ;
• Kim, Do-Yeong ;
• Kim, Gyeong-Hae ;
• Lee, Jun-Sin

• 발행 : 2002.02.19

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