The Effects of Additives in Cu CMP Slurry on Polishing

Cu CMP에서 첨가제가 Polishing에 미치는 영향

  • 홍의관 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 엄대홍 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 박진구 (한양대학교 금속재료공학과)
  • Published : 2001.05.01