The Treatment Capacity of a Catalytic Scrubber for Semiconductor Gas

촉매를 이용한 반도체가스의 처리용량 측정연구

국내 반도체 산업의 비약적인 발전에 따라 국내 반도체 소자 산업은 제조에 있어서 이미 세계 최고 수준을 유지하고 있으며 생산량에 있어서도 세계 최고를 자랑하고 있다. 그러나 반도체의 Wafer 제조 공정에서 발생하는 폐 가스의 처리에 있어서는 아직까지 많은 연구가 이루어지지 않고 있으면 관심의 대상에서 외면당하고 있는 실정이다. 반도체 공정 중에 사용되고 있는 가스나, 공정 후 발생하는 가스들 대부분은 강력한 부식성이나 독성을 가지고 있을 뿐만 아니라 폭발성을 가지는 가스도 상당수 포함되어 있다. (중략)