Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor(MFIS) 구조를 위한 $(Bi_{3.25},La_{0.75})Ti_3O_{12}$ 박막의 성장 및 전기적 특성

The growth and electrical properties of Ferroelectric $(Bi_{3.25},La_{0.75})Ti_3O_{12}$ thin films for Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor(MFIS) structure

  • 최택집 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 전성진 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 김용성 (성균관대학교 재료공학과) ;
  • 이재찬 (성균관대학교 재료공학과)
  • 발행 : 2000.11.01