대한전자공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the IEEK Conference)
- 대한전자공학회 1999년도 추계종합학술대회 논문집
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- Pages.887-890
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- 1999
SiO$_2$ 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
Improvement of SiO$_2$ Etching Characteristics by E-ICP
초록
The etch characteristics of E-ICP and ICP are compared for the improvement of SiO
키워드