Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)

Materials Research Society of Korea (한국재료학회)
권호 표지

Properties of flowable silicon dioxide by LPCVD using $SiH_4$ and $H_2O_2$

$H_2O_2$와 $SiH_4$를 이용한 LPCVD 유동 산화막의 특성

  • 안상태 (현대전자산업(주) 메모리연구소) ;
  • 박상균 (현대전자산업(주) 메모리연구소) ;
  • 김시범 (현대전자산업(주) 메모리연구소) ;
  • 김삼동 (현대전자산업(주) 메모리연구소) ;
  • 김정태 (현대전자산업(주) 메모리연구소)
  • Published : 1999.11.01
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Abstract

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