Effects of the Permalloy Plating Conditions on the Composition of Electrodeposit in High Current DensityRegion

고전류밀도에서 퍼말로이 도금조건이 도금층 조성에 미치는 영향

  • 안지훈 (서울대학교 금속공학과) ;
  • 전상현 (서울대학교 금속공학과) ;
  • 강탁 (서울대학교 금속공학과) ;
  • 임태홍 (한국생산기술연구원)
  • Published : 1998.05.01