고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면에 형성된 잔류막 제거와 후속 실리사이드 형성에 미치는 영향에 관한 연구

  • 이원정 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 김현수 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 염근영 (성균관대학교 재료공학과 반도체 공정연구실) ;
  • 김정훈 (서울대학교 전기공학과) ;
  • 황기웅 (서울대학교 전기공학과) ;
  • 백종태 (한국전자통신연구소)
  • Published : 1997.10.01