A Study on the Correlation between Etching Selectivity and Characteristics of Deposited Polymers in Self-Aligned Contact(SAC) Etching Process

Self-Aligned Contact(SAC) 형성 공정에서 플라즈마 기상화학 및 증착된 Polymer의 물리화학적특성과 식각 선택비와의 상관관계에 대한 연구

  • S. S. Jeong (Semiconductor R&D Samsung Electronics Co. Ltd.) ;
  • K. K. Chi (Semiconductor R&D Samsung Electronics Co. Ltd.) ;
  • C. O. Jung (Semiconductor R&D Samsung Electronics Co. Ltd.) ;
  • J. T. Moon (Semiconductor R&D Samsung Electronics Co. Ltd.) ;
  • Lee, M. Y. (Semiconductor R&D Samsung Electronics Co. Ltd.)
  • Published : 1997.05.01