Characteristics of low dielectric SiOF films formed by remote PECVD with $SF_6$ gas

$SF_6$ 가스를 이용하여 remote PECVD 법에 의해 증착된 저유전율 SiOF 박막의 특성연구

  • 유병곤 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 강승열 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 장원익 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 김광호 (청주대학 반도체공학과) ;
  • 백종태 (한국전자통신연구소 반도체연구단)
  • Published : 1995.11.01