Helicon Wave Plasma CVD 방법에 의한 SiOF 박막형성

• 최치규 (제주대학교 물리학과) ;
• 오상식 (제주대학교 물리학과) ;
• 이광만 (제주대학교 전자공학과) ;
• 김정현 (한국과학기술원 물리학과) ;
• 장홍영 (한국과학기술원 물리학과) ;
• 이정용 (한국과학기술원 전자재료공학과) ;
• 백종태 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
• 서경수 (한국전자통신연구소 반도체연구단)

• Choe, Chi-Gyu (Cheju National University) ;
• O, Sang-Sik (Cheju National University) ;
• Lee, Gwang-Man (Cheju National University) ;
• Kim, Jeong-Hyeon (Korea Advanced Institute of Science and Technology) ;
• Jang, Hong-Yeong (Korea Advanced Institute of Science and Technology) ;
• Lee, Jeong-Yong (Korea Advanced Institute of Science and Technology) ;
• Baek, Jong-Tae (Electronics And Telecommunications Research Institute) ;
• Seo, Kyung-Soo (Electronics And Telecommunications Research Institute)

• 발행 : 1995.06.01

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