저압기상화학증착으로 제작된 다결정 실리콘 후막의 기계적 특성

Mechanical Property of Thick Polycrystalline Silicon Films Grown by LPCVD

  • 이용일 (한국전자통신연구소 반도체 연구단) ;
  • 박경호 (한국전자통신연구소 반도체 연구단)
  • 발행 : 1994.11.01