0.2$muextrm{m}$ MOSFET 제작을 위한 X-선 마스크 제작

• 최상수 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
• 전영진 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
• 이상윤 (경북대학교 물리학과) ;

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• M.Gentili (CNR-IESS in Italy)

• 발행 : 1994.06.01

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