Crystallinity of low temperature silicon films deposited by Remote-PECVD

원거리 플라즈마 화학증착에 의한 저온 규소 박막의 결정성

  • 이일정 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실) ;
  • 김동환 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실) ;
  • 이시우 (포항공과대학교 화학공학과 재료공정 연구실) ;
  • 임인곤 (금성사 안양 연구소) ;
  • 박원규 (금성사 안양 연구소) ;
  • 김성철 (금성사 안양 연구소)
  • Published : 1994.02.01