A study on the $SiO_2$ layer under ECR-PECVD $Ta_{2}O_{5}$ films

ECR-PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 증착시 형성되는 $SiO_2$에 관한 연구

  • 안성덕 (한국과학기술원 전자재료공학과) ;
  • 김일 (한국과학기술원 전자재료공학과) ;
  • 김종석 (한국과학기술원 전자재료공학과) ;
  • 권기원 (삼성전자) ;
  • 안성태 (삼성전자) ;
  • 이원종 (한국과학기술원 전자재료공학과)
  • Published : 1993.11.01