대한전기학회:학술대회논문집 (Proceedings of the KIEE Conference)
- 대한전기학회 1992년도 하계학술대회 논문집 B
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- Pages.897-899
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- 1992
반응성 마그네트론 프로세스에 의한 ITO박막 형성에 관한 연구
A study on the formation of ITO thin film by DC reactive magnetron sputtering
- 곽영순 (부산 대학교 전기공학과) ;
- 조정수 (부산 대학교 전기공학과) ;
- 박정후 (부산 대학교 전기공학과) ;
- 하홍주 (부산 대학교 전기공학과) ;
- 성열문 (부산 대학교 전기공학과)
- Kwak, Y.S. (Dept. of Electrical Engineering, Pusan National University) ;
- Cho, J.S. (Dept. of Electrical Engineering, Pusan National University) ;
- Park, C.H. (Dept. of Electrical Engineering, Pusan National University) ;
- Ha, H.J. (Dept. of Electrical Engineering, Pusan National University) ;
- Sung, Y.M. (Dept. of Electrical Engineering, Pusan National University)
- 발행 : 1992.07.23
초록
This paper deals with the characteristics of Indium Tin Oxide(ITO) sputtered by the reactive magnetron sputtering process. ITO films have been grown at various substrate temperatures(R.T, 100
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