The indium tin oxide(ITO) film on PET was prepared by a wet coating method to obtain the transparent film with a high conductance. ITO nano-particles was synthesized by a SAS method at 15 MPa and $50^{\circ}C$, where optimized rate of In/Sn was 65. Average diameter and resistivity of ITO obtained from SAS are $15{\pm}2\;nm$ and $4{\times}10^4\;{\Omega}{\cdot}cm$. Coating solution was prepared at pH 10. The ITO film was obtained by solution including 0.1 0.5, 1, and 2 ITO wt% on PET. Roughness(Ra) of ITO film with 0.1, 0.5, 1. and 2 ITO wt% is 4, 10, 12, and 16 nm. Resistivity with an increasing ITO concentration is $3.7{\times}10^6,\;2.4{\times}10^6,\;8{\times}10^5,\;and\;2{\times}10^5\;{\Omega}{\cdot}cm$. Transmissivity of ITO film decreased as 89, 88, 86, and 82% with an increasing ITO concentration as 0.1, 0.5, 1, and 2 wt%.
Park, Hyo-Won;Shim, Hong-Sik;Kim, Yong-Ki;Yeh, Wan-Hae;Kim, Choong-Hoe
Proceedings of the Korean Society of Plant Pathology Conference
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2003.10a
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pp.91.1-91
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2003
Bakanae disease, caused by Gibberella fujikuroi (anamorph Fusarium moniliforme J. Sheldon), a typical seed-borne disease of rice occurs from nursery to paddy fields. Consequently, chemical seed disinfectants is the most efficient control method. Several seed treatment methods with various fungicides were attempted to inhibit disease. Spray and 24 hrs immersion of seeds using prochloraz emulsion reduced disease infection and the control value were 99.3 and 100%, respectively. In contrast, dressing to wet seeds thiophanate-methyl+thiram wp and benomyl+thiram wp reduced disease infection more effectively than 24 hrs immersion of seeds. However, dressing of carpropamid+imidacloprid+fludioxonil wp to wet seeds did not reduced disease as well as wettable liquid of fludioxonil. The results suggest that the bakanae disease might be disinfected effectively by 24 hrs immersion of seeds in prochloraz emulsion and seed dressing of fungicides.
Journal of Korea Technical Association of The Pulp and Paper Industry
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v.37
no.3
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pp.50-58
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2005
It is generally known that paper industry is the second largest industry in the use of process water, and also have the highest environmental impact load in the contaminant sources. Paper is produced from the mixtures composed of 1% fibrous raw materials and 99% water. The optimum use of process water effects on the quality properties of paper and the environmental impact load of waste water treatment. In this research, the kinds of fibrous raw material & additives used in the paperboard production line were investigated, and the quantification of environmental loads and the environmental effects of process water on COD potential were evaluated. The NBDCODs were also analyzed from process water by the method of waste water treatment in paper mill and applied for the optimum use of recycling water, and zero effluent process. In the fibrous raw materials, KOCC caused the highest COD potentials, and sack paper & UKP was comparatively low. The NBDCOD of KOCC largely reduced after biological treatment because of easily biodegradable properties, but AOCC contained non-biodegradable materials. In chemical additives, COD was high in turns of rosin>starch>deaeration agent>dye, NBDCOD greatly reduced in starch and deaeration agent. In the case of 2 kinds of paperboard product, the COD potentials was mainly high in starch, AOCC and KOCC.
The nanoprobe based on lithography, mainly represented by SPM based technologies, has been recognized as a potential application to fabricate the surface nanosctructures because of its operational versatility and simplicity. However, nanoprobe based on lithography itself is not suitable for mass production because it is time a consuming method and not economical for commercial applications. One solution is to fabricate a mold that will be used for mass production processes such as nanoimprint, PDMS casting, and others. The objective of this study is to fabricate the silicon stamper for PDMS casting process by a mastless fabrication technique using the combination of nano/micro machining by Nanoindenter XP and KOH wet etching. Effect of the Berkovich tip alignment on the deformation was investigated. Grooves were machined on a silicon surface, which has native oxide on it, by constant load scratch (CLS), and they were etched in KOH solutions to investigate chemical characteristics of the machined silicon surface. After the etching process, the convex structures was made because of the etch mask effect of the mechanically affected layer generated by nanoscratch. On the basis of this fact, some line patterns with convex structures were fabricated. Achieved groove and convex structures were used as a stamper for PDMS casting process.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.318.1-318.1
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2014
Metal nano-crystals have been received much attentions owing to their excellent catalytic property and surface plasmon effect. In the last decade, many studies on synthesizing well-dispersive nanoparticles and on understanding their distinct physical properties have been performed. There were tremendous reports revealing the electrochemical activities and enhancement of surface plasmonic effect were dependent mainly on the size, shape, and composition. So far, most fabrication methods have been based on vacuum based deposition techniques, such as chemical vapor deposition and electron-beam evaporation, and then annealed them to transform into the nanoparticles. Recently, there were several reports regarding to the photoinduced nano-crystal synthesis as an effective way to produce the metal nanoparticles. In this study, we report synchrotron x-ray mediated synthesis of Au nanoparticles on ZnO nanowires. ZnO nanowires were fabricated by hydrothermal method, and then they were dip into a solution having Au clusters. Detailed structural evolution of Au nanoparticles was investigated using scanning electron microscopy and photoluminescence measurements. The results on formation of well-dispersive Au nanoparticles on ZnO nanowires will be presented.
Park, Hyeong-Sik;Jang, Gyeong-Su;Jo, Jae-Hyeon;An, Si-Hyeon;Jang, Ju-Yeon;Song, Gyu-Wan;Lee, Jun-Sin
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.401-401
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2011
In this work, we deposited Al2O3doped ZnO (AZO) thin films by direct current (DC) magnetron sputtering method with a $40^{\circ}$ tilted target, for application in the front layer of thin film solar cell. Wet chemical etching behavior of AZO films was also investigated. In order to optimize textured AZO films, oxalic acid ($C_2H_2O_4$)has been used as wet etchant of AZO film. In this experiment we used 0.001% concentration of oxalic acid various etching time, that showed an anisotropy in etching texture of AZO films. Electrical resistivity, Hall mobility and carrier concentration measurements are performed by using the Hall measurement, that are $6{\times}10^{-4}{\Omega}cm$, $20{\sim}25cm^2/V-s$ and $4{\sim}6{\times}10^{20}$, respectively.
Park, Myung-Beom;Kim, Chong-Don;Heo, Hyun;Cho, Nam-Hee
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.36
no.11
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pp.1252-1260
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1999
The defect chemistry and electrical characteristics of the grain boundaries of semiconducting SrTiO3 ceramics synthesized with wet-chemically surface-coated powders were investigated. The starting powders were separated into groups of 1-10${\mu}{\textrm}{m}$ 10-20${\mu}{\textrm}{m}$ etc by sedimentation and sieving methods. Na+ ions were absorbed on the powder surfaces by wet chemical-treatment method. The width of the grain boundary ranged up to several nm and the intergranular materials was amorphous. The additives coated on the surface of the powders were observed to be present at the grain boundaries of the ceramics. The diffusion depth of the additives into grains was about 30nm for the SrTiO3 ceramics synthesized with 5w/o coated materials, The threshold voltage grain boundary resistance and boundary potential barrier of the ceramics increased from 0.67V/cm 2.27k$\Omega$ and 0.05eV to 80.9V/cm 13.0k$\Omega$ 1.44eV with increasing the amount of the additives from 0 to 5 w/o respectively .
Mun, Mu Kyeom;Lee, Won Oh;Park, Jin Woo;Kim, Doo San;Yeom, Geun Young;Kim, Dong Woo
Applied Science and Convergence Technology
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v.26
no.6
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pp.164-173
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2017
Across the most industry, the demand for nanoparticles is increasing. Therefore, many studies have been carried out to synthesize nanoparticles using various methods. The aim of this paper is to introduce an industry-applicable as well as financially and environmentally effective solution plasma process. The solution plasma process involves fewer chemicals than the traditional kit, and can be used to replace many of the chemical agents employed in previous synthesis of nanoparticles into plasma. In this study, this process is compared to the wet-reaction process that has thus far been widely used in the most industry. Furthermore, the solution plasma process has been classified into four different types (in-solution, out of solution, direct type, and remote type), according to its plasma occurrence position and plasma types. Thus, the source of radicals, nanoparticle synthesis, and modification methods are explained for each design. Lastly, unlike nanoparticles with hydrophilic functional groups that are made inside the solution, a nanoparticle synthesis and modification method to create a hydrophobic functional group is also proposed.
The nanoprobe based on lithography, mainly represented by SPM based technologies, has been recognized as potential application to fabricate the surface nanostructures because of its operational versatility and simplicity. The objective of the work is to suggest new mastless pattern fabrication technique using the combination of machining by nanoindenter and KOH wet etching. The scratch option of the nanoindenter is a very promising method for obtaining nanometer scale features on a large size specimen because it has a very wide working area and load range. Sample line patterns were machined on a silicon surface, which has a native oxide on it, by constant load scratch (CLS) of the Nanoindenter with a Berkovich diamond tip, and they were etched in KOH solutions to investigate chemical characteristics of the machined silicon surface. After the etching process, the convex structure was made because of masking effect of the affected layer generated by nano-scratch. On the basis of this fact, some line patterns with convex structures were fabricated. Achieved patterns can be used as a mold that will be used for mass production processes such as nanoimprint or PDMS molding process. All morphological data of scratch traces were scanned using atomic force microscope (AFM).
Halloysite nanotube (HNT) has a nanotube structure with the chemical formula of Al2Si2O5(OH)4 · nH2O and is a natural sediment of aluminosilicate. A lot of research has been conducted to improve the mechanical properties of epoxy composites by generating interactions between HNTs and polymers through surface treatment of HNTs, such as exchange of amine group as a terminal functional group. However, most of the surface modification methods are performed under wet conditions, which require a relatively large amount of time, manpower and solvent. In order to save time and simplify complicated procedures, a dry coating machine was designed and used for amine group exchange. Comparing the XPS results, it was found that the results of NH2-HNT prepared using a dry coating machine and the substitution through the wet method were not significantly different, and it has been confirmed that the amount of solvent used and the time savings can be made.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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