Kim, Hong-Sung;Park, Sang-Min;Yoon, Sang-Jun;Hwang, Dae-Youn;Jung, Young-Jin
Polymer(Korea)
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v.33
no.5
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pp.509-513
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2009
For examining an effect of lithium bromide on structure and property of chitosan/fibroin blend, we investigated the structural characteristic of chitosan/fibroin blend films using solution with lithium bromide which was removed during a casting. The chitosan/fibroin blend formed a complex with the dissolved bromine/lithium ions. The crystalline phase of the complex was found in the blend film at LiBr concentration of 0.6 mol/L. The degree of crystallization was decreased with increasing the concentration of LiBr. The hydrated crystalline phase of chitosan was formed in the blend film that lithium bromide was removed in the process of casting by neutralization and osmotic action. The crystallinity of this film was increased largely as compared with that of the film without lithium bromide. The complexed blend film formed hydrogel absorbing plenty of water.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.11a
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pp.207-207
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2008
Modern industry has focused on processing that produce low- loss dielectric substrates used complex micron-sized devices using tick film technologies such as tape casting and slip casting. However, these processes have inherent disadvantages fabricating high density interconnect with embedded passives for high speed communication electronic devices. Here, we have successfully fabricated porous alumina dielectric layer infiltrated with polymer solution by using inkjet printing process. Alumina suspensions were formulated as dielectric ink that were optimized to use in inkjet process. The layer was confirmed by field emission scanning electron microscope (FE-SEM) for measuring microstructure and volume fraction. In addition, the reaction kinetics and electrical properties were characterized by FT-IR and the impedance analyzer. The volume fraction of alumina in porous dielectric alumina layer is around 70% much higher than that in the conventional process. Furthermore, after infiltration on the dielectric layer using polymer resins such as cyanate ester. Excellent Q factors of the dielectric is about 200 when confirmed by impedance analyzer without any high temperature process.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1995.05a
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pp.129-131
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1995
In order to investigated the effects of crystal stucture in electrical breakdown of plyethylene film, Low molecular materials in polyethylene are removed by the method as follow Polyethylene was dissolved in xylene and filtered through a glass fiber filter, And then, a polyethyene thin films of thickness 0.4~1.4$\mu\textrm{m}$ are prepared with heat treatment from solution casting. To evaluate the performance of PE film. Electrical breakdown of PE film as measured on M(Al)-I(PE)-M(Al) systemes.
Proceedings of the Korean Fiber Society Conference
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2003.10a
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pp.99-99
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2003
We have investigated the properties of poly (vinyl alcohol)-film obtained by casting from the solution PVA/electrolytes (NaCl, KCl, MgCl$_2$, CaCl$_2$)/water systems at room temperature. The removed electrolytes films have got high crystallinity as well as high draw ratio. The removed electrolytes films had layer-structure while a film without electrolytes didn't have it. A relation between draw ratio and thickness or number of layers, were recognized.
Superfine down-powder/viscose blend films were prepared and characterized for their dyeing properties. Down-powder with average size of $2.56{\mu}m$ were suspended in viscose dope and blend films were obtained by solution casting. When the blend films were dyed with acid dye, the dye uptake and K/S values increased with the increase in down-powder content. Amino-acid analyses showed that amino acid component of the down were not affected during the film formation, which confirmed the changes of dye uptake and K/S value.
Proceedings of the Membrane Society of Korea Conference
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1997.10a
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pp.81-82
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1997
1. Introduction : The growth of membrane science was initiated by the invention of asymmetric membrane which can be formed by the technique known as phase inversion. The basic procedure of phase inversion involves casting a thin film of polymer solution onto a suitable substrate followed by immersion in a coagulation bath (quench step). Therefore, events occurring during the quench period, at which time solvent-nonsolvent exchange and eventual polymer precipitation take place, can play a controlling role in the determination of ultimate membrane structure.
A photocrosslinkable polyphosphazene was used for molecular imprinting. We synthesized polyphosphazene (3) having urea groups for complexation with N-carbobenzyloxyglycin (Z-Gly-OH, template) and chalcone groups for cross-linking reaction. As substituents, 4-hydroxycha1cone (1) and N-(4-hydroxyphenyl)-N'-ethylurea (2) were prepared. Choloro groups of poly(dichlorophosphazene) were replaced by the sequential treatment with sodium salts of compounds 1 and 2, and trifluoroethanol. The template molecule was complexed with the urea groups on the polymer chains via hydrogen bonding. A thin polymer film was prepared by casting a solution of the complex of polymer 3 and the template in dimethylformamide on a quartz cell and irradiated with 365 nm UV light to yield a cross-linked film with a thickness of about $16{\mu}m$. The template molecules in the film were removed by Soxhlet extraction with methanol/acetic acid. The control polymer film was prepared in the same manner for the preparation of the imprinted polymer film, except that the template and triethylamine were omitted. In the rebinding test, the imprinted film exhibited much higher recognition ability for the template than the control polymer. We also investigated the specific recognition ability of the imprinted polymer for the template and its structural analogues. The rebinding tests were conducted using Z-Glu-OH, Z-Asp($O^tBu$)-OH, and Z-Glu-OMe. The imprinted film showed higher specific recognition ability for the template and the lowest response for Z-Asp($O^tBu$)-OH.
Kim, Bong-Seong;Kim, Won-Jung;Kim, Young-Do;Huh, Do-Sung
Bulletin of the Korean Chemical Society
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v.32
no.12
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pp.4221-4226
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2011
Honeycomb-patterned polyvinypyrrolidone (PVP) thin films coated with nanometer-sized silver particles were prepared using honeycomb-patterned polystyrene (PS) template films fabricated by casting a polystyrene solution under humid condition. Silver was first metallized on the patterned PS films via silver nitrate ($AgNO_3$) reduction using tetrathiafulvalene (TTF) and a small amount of PVP as the reductant and dispersing agent, respectively. The effects of $AgNO_3$, TTF, and PVP solution concentrations during the reduction process in acetonitrile were determined to obtain a uniform silver-coated honeycomb-patterned PS film. Second, the silver-metallized patterned porous PS films were filled with high PVP concentration solutions via the spincoating process. Silver-coated patterned PVP films were obtained by peeling off the PVP layer from the template PS film after drying. The results show that the honeycomb-patterned PVP films uniformly coated with silver particles are conveniently obtained using the silver-coated patterned PS template, although the direct fabrication of these films using water droplets under humid conditions was not feasible because of the water solubility of PVP.
The effects of the Zn content on the microstructure and corrosion behavior in 1M NaCl solution were investigated in Mg-(0~6)%Zn casting alloys. The MgZn phase was scarcely observed in the Mg-1%Zn alloy, while the Mg-(2~6)%Zn alloy consisted of ${\alpha}$-(Mg) and MgZn phases. With an increase in the Zn content, the amount of the MgZn phase was gradually increased. Immersion and electrochemical corrosion tests indicated that the Mg-1%Zn alloy had the lowest corrosion rate among the alloys, and a further increase in the Zn content resulted in the deterioration of the corrosion resistance. Microstructural examinations of the corroded surfaces and EIS analyses of surface corrosion films revealed that the best corrosion resistance at 1%Zn was associated with the absence of MgZn phase particles in the microstructure and the contribution of Zn element to the formation of a protective film on the surface. A micro-galvanic effect by the MgZn particles led to the increased rate of corrosion at a higher Zn content.
The corrosion behavior of aluminum alloys in the $H_2SO_4$ solution was investigated based on potentiodynamic techniques. Electrochemical properties, such as corrosion potential($E_c$), passive potential($E_p$), corrosion current density($I_c$), corrosion rate(mpy), of Al-Mg-Si, Al-Cu-Si and Al-Si alloys were characterized at room temperature. Passive aluminum oxide film, which including $Al_2(SO_4)_3$ and $3Al_2O_34SO_38H_2O$, were uniformly formed on the surface via the reaction of Al with $SO{_3}^{2-}$ or $SO{_4}^{2-}$ ions in the $H_2SO_4$ solution and the dependence of the corrosion behavior on the alloying element was discussed. The selective leaching of alloy element increased with increasing Cu content in the aluminum alloys.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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