• 제목/요약/키워드: soft etchant

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CCL 표면과 포토리지스트와의 접착력 향상 위한 Soft 에칭액의 제조 (Preparation of Soft Etchant to Improve Adhesion Strength between Photoresist and Copper Layer in Copper Clad Laminates)

  • 이수;문성진
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제32권3호
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    • pp.512-521
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    • 2015
  • PCB 제조에서 photoresist와 Copper Clad Laminate(CCL)의 구리표면과의 부착력을 항상시키기 위하여 사용되는 soft etching제를 제조하기 위하여 과산화수소 사용을 배제하고, 유기산과 유기과산화물을 이용하여 산의 종류, 농도, 에칭시간 등에 따른 구리표면의 에칭속도, 표면 조도, 및 오염도 등을 조사하였다. 또한 에칭 후의 표면의 얼룩을 제거하기 위한 안정제의 최적 배합 및 농도도 확립하였다. 본 연구 결과 유기산의 종류 중에서는 아세트산이 초기 구리 에칭속도가 가장 빨랐으며, 농도가 0.04 M이었을 때 $0.4{\mu}m/min$이였다. 유기과산화물인 APS의 농도는 높을수록 에칭속도가 가장 빨랐으나, 표면 오염이 심각하였다. 안정제 용액의 조성도 표면 오염도에 큰 영향을 주었다. 결과적 0.04 M 아세트산, 0.1M APS에 4 g/L의 안정제(ST-1)를 첨가한 에칭액의 경우 $0.37{\mu}m/min$의 에칭속도와 표면오염이 전혀 없으며, 표면 조도도 가장 우수하였다. 즉, CCL과 photoresist와 접착력을 향상시킬 수 있을 것으로 판단된다.

나노 복화(複畵)공정을 이용한 PDMS 스탬프 제작 (Fabrication of a PDMS (Poly-Dimethylsiloxane) Stamp Using Nano-Replication Printing Process)

  • 박상후;임태우;양동열;공홍진
    • 대한기계학회논문집A
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    • 제28권7호
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    • pp.999-1005
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    • 2004
  • A new stamp fabrication technique for the soft lithography has been developed in the range of several microns by means of a nano-replication printing (nRP) process. In the nRP process, a figure or a pattern can be replicated directly from a two-tone bitmap figure with nano-scale details. A photopolymerizable resin was polymerized by the two-photon absorption which was induced by a femtosecond laser. After the polymerization of master patterns, a gold metal layer (about 30 ㎚ thickness) was deposited on the fabricated master patterns for the purpose of preventing a join between the patterns and the PDMS, then the master patterns were transferred in order to fabricate a stamp by using the PDMS (poly-dimethylsiloxane). In the transferring process, a few of gold particles, which were isolated from the master patterns, remained on the PDMS stamp. A gold selective etchant, the potassium iodine (KI) was employed to remove the needless gold particles without any damage to the PDMS stamp. Through this work, the effectiveness of the nRP process with the PDMS molding was evaluated to make the PDMS stamp with the resolution of around 200 ㎚.

탄산음료에 의해 부식된 법랑질 표면변화에 대한 증례발표 (SCANNING ELECTRON MICROSCOPIC STUDY OF THE EFFECT OF ACIDIC DRINK ON ENAMEL EROSION : A CASE REPORT)

  • 김수연;박재홍;김광철;최영철
    • 대한소아치과학회지
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    • 제35권3호
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    • pp.509-515
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    • 2008
  • 현대 사회에서 증가하고 있는 산성 음료의 소비는 치아 부식의 원인으로 주목받고 있다. 이에 본 연구에서는 산성 음료와 산부식 용액, 산성 음료 적용 후 칫솔질, 산성 음료 적용 후 우유, 타액, Tooth $Mousse^{(R)}$ 의 적용이 치아 법랑질 표면 재광화에 미치는 영향을 평가하기 위해 사람 소구치의 치관 시편을 제작하여 각각을 적용시킨 후 scanning electron micrograph (SEM)를 촬영한 결과 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. Coca-Cola와 Chilsung-Cider의 산도는 FineEtch 37과 self-etching primer인 $Tyrian^{TM}SPE$의 산도보다 높았다. 2. Coca-Cola, Chilsung-Cider, FineEtch 37, $Tyrian^{TM}SPE$를 적용한 후 촬영한 SEM 사진에서 법랑질 표면의 부식된 양상을 비교한 결과 Coca-Cola와 Chilsung-Cider의 산부식 정도가 나머지 둘의 산부식 정도보다 낮은 양상을 보였다. 3. Coca-Cola, Chilsung-Cider를 적용한 후 우유, 타액, Tooth $Mousse^{(R)}$를 적용시키고 촬영한 SEM 결과 모두 비슷한 양상을 보였으며 이는 부식된 법랑질 표면보다 덜 부식된 양상을 보였다. 4. Coca-Cola를 적용시킨 다음 칫솔질한 후와 Coca-Cola, 타액, 칫솔질의 순서로 적용한 후 촬영한 SEM 결과, 타액을 적용시킨 법랑질의 표면이 덜 부식된 양상을 보였다.

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