Fabrication of sub-100nm sized Hydrogen Silsequioxane patterns using reversal imprint lithography (역 임프린팅을 이용한 sub-100nm급 Hydrogen Silsequioxane 패턴 형성에 대한 연구)
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- Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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- 2007.11a
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- pp.153-154
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- 2007