• 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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• 한국신재생에너지학회 2007년도 춘계학술대회
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• pp.796-799
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• 2007

In the bench scale test unit consisting of four commercial filter elements, the traces of the transient pressure around the nozzle and overpressure in the filter cavity were measured to estimate the effect of nozzle on pulse cleaning. For the given pulse cleaning system, the convergent nozzle displayed better performance than the straight one. The optimum ratio of outlet to inside diameter of convergent nozzle was determined, which minimized the pulse gas consumption and maximized the entrainment effect. The angle and height of nozzle convergent part was also optimum operational condition, which is meaningful to the industrial applying.

• 전기학회논문지P
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• 제54권4호
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• pp.224-229
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• 2005

This paper presents a bidirectional pulse power electrochemical etching system for groove manufacturing of the dynamic bearings. To manufacture the dynamic bearing for the groove, it is very important to consider the depth and roughness. If the precision of the groove is not exact, we can not get the desirable performance for the target of the dynamic bearing. To make the groove of bearing precise, we propose the method of electrochemical etching system. In order to design the depth and roughness exactly, the bidirectional pulse power converter is proposed. With the bidirectional pulse power converter, we obtain the condition and the parameters of converter such as frequency, duty ratio, time, temperature, velocity, pressure and so on. In this paper, we get the experimental results to verify the precise groove manufacturing.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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• pp.609-612
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• 2002

A new reset waveform is proposed for reducing the reset period. A square pulse is applied to the address electrode while reset pulse ramps and before a discharge between the sustain electrodes occurs. The square pulse induces a discharge between the address electrode and the X electrode, and the induced wall charge is opposite to the applied ramp pulse. Thus, the next discharge between the sustain electrodes becomes weaker. The weaker discharge lowers background luminance and improves contrast ratio. Thus, the new reset waveform can reduce ramp up time in the ramp reset waveform The experimental results show that the ramp up time can be reduced by about 90% compared with the conventional ramp reset waveform.

• 한국초전도ㆍ저온공학회논문지
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• 제1권1호
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• pp.42-47
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• 1999

Enthalpy transport in a pulse tube was investigated by two-dimensional analysis of mass. momentum an energy equations of the gas as well as energy conservation of the tube wall. The mean temperature of the gas and the tube wall was obtained directly by assuming that the outer surface of a pules tibe wall is adiabatic. Axial profile of mean temperature is small. but it deviates significantly from linear profile when the dimensionless frequency is large. Effect of operating frequency. tube wall thickness, velocity ratio and velocity phase angle between both ends of a pulse tube on net enthalpy flow were shown.

• 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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• 제53권11호
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• pp.566-571
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• 2004

Pulse modulation technique provide additional controling method for electron temperature and density in rf and microwave processing plasma. Transient characteristics of electron density and temperature have been measured in pulse modulated rf inductively coupled argon plasma using simple probe circuit. Electron temperature relaxation is clearly identified in the after glow stage. Controllability of average electron temperature and density depends on the modulation frequency and duty ratio. Numerical calculation of time-dependent electron density and temperature have been performed based on the global model. It has been shown that simple langmuir probe measurement method used for continuous plasma is also applicable to time-dependent measurement of pulse modulated plasma.

• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 2007년도 하계종합학술대회 논문집
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• pp.185-186
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• 2007

In this paper, We propose the selective detection scheme based on pulse repetition considering Bit Error Rate (BER) performance and complexity of noncoherent Ultra Wide Band (UWB) systems. To consider system complexity, the proposed scheme transmits the UWB signals by pulse repetition at the transmitter, like the conventional Pulse Repetition Coding (PRC). However, to effectively improve BER performance of the system the proposed scheme performs selective detection by estimating the Signal-to-Noise Ratio (SNR) of the received pulse-repeated signal at the receiver. Hence, the proposed scheme effectively improves BER performance of the noncoherent UWB systems without increase of the system complexity, as compared to the conventional PRC algorithm.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2015년도 제49회 하계 정기학술대회 초록집
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• pp.136.2-136.2
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• 2015

반도체 제조는 chip의 성능 향상 및 단가 하락을 위해 지속적으로 pattern size가 nano size로 감소해 왔고, capacitor 용량은 증가해 왔다. 이러한 현상은 contact hole의 aspect ratio를 지속적으로 증가시킨바, 그에 따라 최적의 HARC (high aspect ratio contact)을 확보하는 적합한 dry etch process가 필수적이다. 그러나 HARC dry etch process는 많은 critical plasma properties 에 의존하는 매우 복잡한 공정이다. 따라서, critical plasma properties를 적절히 조절하여 higher aspect ratio, higher etch selectivity, tighter critical dimension control, lower P2ID과 같은 plasma characteristics을 확보하는 것이 요구된다. 현재 critical plasma properties를 제어하기 위해 다양한 plasma etching 방법이 연구 되어왔다. 이 중 plasma를 낮은 kHz의 frequency에서 on/off 하는 pulsed plasma etching technique은 nanoscale semiconductor material의 etch 특성을 효과적으로 향상 시킬 수 있다. 따라서 본 실험에서는 dual-frequency capacitive coupled plasma (DF-CCP)을 사용하여 plasma operation 동안 duty ratio와 pulse frequency와 같은 pulse parameters를 적용하여 plasma의 특성을 각각 제어함으로써 etch selectivity와 uniformity를 향상 시키고자 하였다. Selective SiO2 contact etching을 위해 top electrode에는 60 MHz pulsed RF source power를, bottom electrode에는 2MHz pulse plasma를 인가하여 synchronously pulsed dual-frequency capacitive coupled plasma (DF-CCP)에서의 plasma 특성과 dual pulsed plasma의 sync. pulsing duty ratio의 영향에 따른 etching 특성 등을 연구 진행하였다. 또한 emissive probe를 통해 전자온도, OES를 통한 radical 분석으로 critical Plasma properties를 분석하였고 SEM을 통한 etch 특성분석과 XPS를 통한 표면분석도 함께 진행하였다. 그 결과 60%의 source duty percentage와 50%의 bias duty percentage에서 가장 향상된 etch 특성을 얻을 수 있었다.

• 감성과학
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• 제12권3호
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• pp.299-306
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• 2009

본 연구에서는 비침습적으로 압력 맥파를 검출하는 토노메트리 방식의 맥파 측정 장비인 SphygmoCor(AtCor, Australia)를 사용하여 측정자세에 따라 맥파를 측정하였다. 측정 결과를 통해 선 자세, 앉은 자세, 누운 자세에 따른 맥파의 분석 지표들의 변화를 분석하였다. 또한 측정된 데이터를 저혈압군, 정상혈압군, 고혈압군으로 구분하여 혈압군에 따른 맥파의 비교를 수행하였다. 그 결과 자세에 따른 요골동맥의 파형에서 유의차를 보인 분석지표는 맥파의 진폭에 해당되는 압력 보다 주요 피크가 발생되는 시간에서 나타났다. 맥압의 경우 맥파증대계수(AI)나 중심동맥압과 요골동맥압의 비율과 같이 맥압 간의 비율이 자세에 따른 변별력이 있었다. 사후검정에 따라 각 자세별로 상호 간에 모두 유의한 차이를 보인 분석지표는 주파(P_$T_1$)와 반사파(P_$T_2$)의 시간, 심박출지속시간(ED), 심박수(HR)로 나타났다. 혈압군에 대한 비교에서 대부분 맥파의 시간에 해당되는 지표보다 주요 피크의 진폭에 해당되는 맥파의 압력을 나타내는 지표가 혈압군에 따른 유의차를 보였다.

• 대한전자공학회논문지TC
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• 제45권3호
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• pp.19-26
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• 2008

본 논문에서는 Coherent 임펄스 라디오-초광대역 (Impulse Radio-Ultra Wide Band; IR-UWB) 시스템에서 복잡도와 비트오율 (Bit Error Rate; BER) 성능을 모두 고려하기 위한 펄스 반복 전송 기반의 선택적 검출 기법을 제안한다. 우선 제안된 기법은 시스템의 복잡도를 고려하기 위해, Coherent IR-UWB 송신기에서는 매우 간단한 시간 다이버시티 알고리즘인 일반적인 PRC (Pulse Repetition Coding)와 동일하게 UWB 신호를 반복 전송하게 된다. 하지만, 제안된 기법은 시스템의 BER 성능을 효과적으로 향상시키기 위해, Coherent IR-UWB 수신기에서는 반복 전송되어 수신된 신호의 신호대잡음비(Signal-to-Noise Ratio)를 추정하여 선택적으로 신호 검출을 수행한다. 그러므로, 제안된 기법은 일반적인 PRC 알고리즘과 비교하여 시스템의 복잡도를 거의 증가시키지 않고 Coherent IR-UWB 시스템의 BER 성능을 효과적으로 향상시킨다.

• 한국재료학회지
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• 제19권3호
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• pp.151-155
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• 2009

Micro-scale copper bumps for build-up PCB were electroplated using a pulse-reverse method. The effects of the current density, pulse-reverse ratio and brightener concentration of the electroplating process were investigated and optimized for suitable performance. The electroplated micro-bumps were characterized using various analytical tools, including an optical microscope, a scanning electron microscope and an atomic force microscope. Surface analysis results showed that the electroplating uniformity was viable in a current density range of 1.4-3.0 A/$dm^2$ at a pulse-reverse ratio of 1. To investigate the brightener concentration on the electroplating properties, the current density value was fixed at 3.0 A/$dm^2$ as a dense microstructure was achieved at this current density. The brightener concentration was varied from 0.05 to 0.3 ml/L to study the effect of the concentration. The optimum concentration for micro-bump electroplating was found to be 0.05 ml/L based on the examination of the electroplating properties of the bump shape, roughness and grain size.