Kim, In-Seop;Park, Yong-Woon;Woo, Hang-Sang;Chong E. Chang;Lee, Soungmin
Journal of Microbiology
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v.38
no.3
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pp.187-191
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2000
A validation study was conducted to determine the efficacy of solvent/Detergent (S/D) inactivation and Q-Sepharose column chromatographic removal of the human immunodeficiency virus (HIV) during the manufacturing of a high purity antihemopilic factor VIII (GreenMono) from human plasma. S/D treatment using the organic solvent, tri (n-butyl) phosphate, and the detergent, Trition X-100, was a robust and effective step in eliminating HIV-1. The HIV-1 titer was reduced from an initial titer of 8.3 log10 TCID50 to undetectable levels within one minute of S/D treatment, HIV-1 was effectively partitioned form factor VIII during Q-Sepharose column chromatography with the log reduction factor of 4.1 . These results strongly assure the safety of GreenMono From HIV.
In order to observe the effects of resistant starches on human glycemic response, nine female university students were investigated using cellulose (CED), resistant starch 3 (RS3D) and resistant starch 4 (RS4D) diets. Each woman's blood sugar and insulin, triacylglycerol and free fatty in plasma concentration were measured at fasting state, then 15, 30, 45, 60, 75, 90 and 120 minute after each test diet feeding. Glycemic indices of the Cellulose diet (CED: 57.9 $\pm3.00$), the Resistant starch 3 diet (RS3D: 52.6 $\pm7.9$) and the Resistant starch 4 diet (RS4D: 52.9 $\pm10.2$) were similar to each other, but they were significantly lower in comparison with those of white wheat bread diet (WWBD: 100). Insulinemic indices of the CED (49.8 $\pm8.2$), RS3D (50.0 $\pm7.3$) and RS4D (72.4 $\pm7.7$) were significantly lower in comparison with the white wheat bread diet (WWBD: 100), but among the dietary fiber diets, the insulinemic index of RS4D was significantly higher than the CED and the RS3D. Plasma triacylglycerol contents of the CED, RS3D and RS4D including WWBD showed gradual increase in tendency after lowering in early stage of each test diet feeding, but not significantly different in each dietary fiber added diet. Plasma free fatty acid contents of the CED, RS3D and RS4D including WWBD showed gradual decrease in tendency after each test diet feeding, but not significantly different by each dietary fiber added diet. In above results, we speculate that resistant starch 3 controls rapid elevation of blood sugar by delaying intestinal digestion and absorption of cellulose, but the result appears to be different from RS4 in comparison. Thus, RS3 intakes may contribute to the diet therapy of diabetic humans, but more studies on RS4 is needed in the future. (Korean J Community Nutrition 9(4): 528∼535, 2004)
CVD-Si3N4/CVD-SiC/pack-SiC/pyro-carbon/(3-D C/C composite) multilayer coating was performed to improve the oxdiation resistance and erosion resistance properteis of the 3-D carbon/carbon composite, and the plasma test was performed to measure the oxidation resistance and erosion resistance properties. The thicknesses of each film layer were about 10${\mu}{\textrm}{m}$ for pack-SiC, 5${\mu}{\textrm}{m}$ for CVD-SiC and 40${\mu}{\textrm}{m}$ for CVD-Si3N4. When the multilayer coated specimen was exposed to the plasma flame with temperature of 500$0^{\circ}C$ for 20 seconds, it showed the weight loss five times less than that of the only pyro-carbon coated specimen.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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1998.02a
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pp.77-77
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1998
Present silicon dioxide (SiOz) 떠m as intennetal dielectridIMD) layers will result in high parasitic c capacitance and crosstalk interference in 비gh density devices. Low dielectric materials such as f f1uorina뼈 silicon oxide(SiOF) and f1uoropolymer IMD layers have been tried to s이ve this problem. I In the SiOF ftlm, as fluorine concentration increases the dielectric constant of t뼈 film decreases but i it becomes unstable and wa않r absorptivity increases. The dielectric constant above 3.0 is obtain어 i in these ftlms. Fluoropolymers such as polyte$\sigma$따luoroethylene(PTFE) are known as low dielectric c constant (>2.0) materials. However, their $\alpha$)Or thermal stability and low adhesive fa$\pi$e have h hindered 야1리ru뚱 as IMD ma따"ials. 1 The concept of a plasma processing a찌Jaratus with 비gh density plasma at low pressure has r received much attention for deposition because films made in these plasma reactors have many a advantages such as go여 film quality and gap filling profile. High ion flux with low ion energy in m the high density plasma make the low contamination and go어 $\sigma$'Oss피lked ftlm. Especially the h helicon plasma reactor have attractive features for ftlm deposition 야~au똥 of i앙 high density plasma p production compared with other conventional type plasma soun:es. I In this pa야Jr, we present the results on the low dielectric constant fluorocarbonated-SiOF film d밑JOsited on p-Si(loo) 5 inch silicon substrates with 00% of 0dFTES gas mixture and 20% of Ar g gas in a helicon plasma reactor. High density 띠asma is generated in the conventional helicon p plasma soun:e with Nagoya type ill antenna, 5-15 MHz and 1 kW RF power, 700 Gauss of m magnetic field, and 1.5 mTorr of pressure. The electron density and temperature of the 0dFTES d discharge are measUI벼 by Langmuir probe. The relative density of radicals are measured by optic허 e emission spe따'Oscopy(OES). Chemical bonding structure 3I피 atomic concentration 따'C characterized u using fourier transform infrared(FTIR) s야3띠"Oscopy and X -ray photonelectron spl:’따'Oscopy (XPS). D Dielectric constant is measured using a metal insulator semiconductor (MIS;AVO.4 $\mu$ m thick f fIlmlp-SD s$\sigma$ucture. A chemical stoichiome$\sigma$y of 야Ie fluorocarbina$textsc{k}$영-SiOF film 따~si야영 at room temperature, which t the flow rate of Oz and FTES gas is Isccm and 6sccm, res야~tvely, is form려 야Ie SiouFo.36Co.14. A d dielec$\sigma$ic constant of this fIlm is 2.8, but the s$\alpha$'!Cimen at annealed 5OOt: is obtain려 3.24, and the s stepcoverage in the 0.4 $\mu$ m and 0.5 $\mu$ m pattern 킹'C above 92% and 91% without void, res야~tively. res야~tively.
Sreentvasan, Rajesh;Joshi, Preeti G.;Joshi, Nanda B.
Journal of Photoscience
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v.4
no.2
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pp.41-48
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1997
The plasma membrane and microsomes, isolated from the cells treated with hematoporphyrm derivative (HpD) for 1 and 24 h, accumulated the aggregated porphyrin. The quantity of aggregated porphyrin was same in the plasma membrane and microsomes after isolating them from cells treated with HpD for 1 h whereas the microsomes accumulated higher quantity of aggregated porphyrin when cells were treated with HpD for 24 h. Photodynamic action of aggregated porphyrin on plasma membrane and microsomes was investigated using lipid specific fluorescent probes: 1,6-diphenyl-1,3,5-hexatrine (DPH) and 1-(4-trimethylammonium), 6-diphenyl-1,3,5-hexatrine(TMA-DPH). The time dependent anisotropy of these probes in the membranes was measured and the decay of anisotropy was analyzed using wobbling in cone model. Upon irradiation both the plasma membrane and the microsomes showed an increase in the limiting anis~)tropy and order parameter and a decrease in the cone angle of the lipid probes. The increase in the limiting anisotropy was pronounced in membranes isolated from the cells treated with HpD for 24 h. Photoinduced change in the limiting anisotropy was dependent on the duration of incubation of cells with HpD before isolating the membranes. In both the membranes. the membrane core was affected more as compared to the outer leaflet. In addition to the structural changes, a decrease in Na$^+$-K$^+$-ATPase and NADPH cyt c reductase activity was also observed upon irradiation of HpD treated cells. Inhibition in NADPH cyt c reductase was more when cells were treated with HpD for 24 h, however, Na$^+$-K$^+$-ATPase activity did not depend on the duration of the treatment of cells with HpD before irradiation. Our results suggest that the extent of photoinduced perturbations in the membranes varies as a function of duration of the treatment of cells with HpD and the membrane core is more susceptible to the photodynamic action of aggregated porphyrin.
As the semiconductor industry develops, the difficulty of newly required process technology becomes difficult, and the importance of production yield and product reliability increases. As an effort to minimize yield loss in the manufacturing process, interests in the process defect process for facility diagnosis and defect identification are continuously increasing. This research observed the plasma condition changes in the multi oxide/nitride layer deposition (MOLD) process, which is one of the 3D-NAND manufacturing processes through optical emission spectroscopy (OES) and monitored the result of whether the change in plasma characteristics generated in repeated deposition of oxide film and nitride film could directly affect the film. Based on these results, it was confirmed that if a change over a certain period occurs, a change in the plasma characteristics was detected. The change may affect the quality of oxide film, such as the film thickness as well as the interfacial surface roughness when the oxide and nitride thin film deposited by plasma enhenced chemical vapor deposition (PECVD) method.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.08a
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pp.179.1-179.1
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2013
Cylindrical Rotating Magnetron Sputtering Cathode (이하 Rotary Cathode)는 기존에 사용 되던 rectangular type 보다 Target 사용 효율이 높다는 큰 이점을 가지고 있다. 높은 Target 사용 효율은 비용 절감 효과와 직접적으로 관련 된다. 이번 연구는 3D Plasma simulation(PIC-MCC)을 통한 Target 사용 효율 80% 이상의 Rotary Cathode 개발을 목적으로 한다. Plasma simulation에 External Magnetic fields를 접목하여 Electron의 이동 궤적을 제어하였고, 생성된 Ion (Ar+)의 밀도 및 속도로 Plasma의 안정성과 Erosion 계산 구간을 선정 하였다. Target Erosion Profile은 Sputtering yield Data와 Target에 충돌한 Ion 정보를 사용하여 산출 하였으며, Sputtered Particles의 Deposition Profile은 계산된 Target Erosion Profile과 The cosine law of emission을 이용하여 계산 하였다. 실험 조건은 Plasma simulation의 초기조건 바탕으로 하여 2G size의 ITO Target을 대상으로 실험 하였다. 비 Erosion 영역 최소화하기 위해 Magnet Length를 변경하여 제작 적용 하였다. Simulation 계산 시간의 제약으로 인하여 simulation에서 생성된 최대 이온 밀도는 일반적으로 알려진 값 보다 적게 계산 되었지만, Simulation으로 예측한 Erosion Profile 및 Deposition Profile은 실험 값과 유사한 형태를 나타났으며, 실험 결과는 Target 사용 효율 80%이상의 결과를 보였다.
Objectives : In order to examine the antioxidant activities of Kyungohkgo(瓊玉膏), the study was done through measurement of parameters such as Thiobarbituric acid reactive substance(TBARS), Superoxide dismutase(SOD), Catalase(CAT), Glutathione peroxidase(GSH-px), Plasma total lipid, Plasma total triglyceride, Plasma total cholesterol, HDL-cholesterol concentrations in rat erythrocytes and plasma. Methods : Sprague-Dawley rats divided into 3 groups, Normal group(l2 weeks old), pathologically induced group(injected D-galatose 50mg/kg, 1time/day for 6 weeks, CONTROL) and Kyungohkgo(瓊玉膏) administered group(D-galactose 50mg/kg and Kyungohkgo extracts 1125.0mg/kg 1time/day for 6 weeks, KOG). Rats were sacrificed and TBARS, SOD, CAT, Plasma total lipid, Plasma triglyceride, Plasma total cholesterol, Plasma HDL-cholesterol concentrations and GSH-px were measured in rat erythrocytes and plasma. Results : Plasma TBARS concentrations of KOG group were significantly lower than those of control. Red blood cell(RBC) SOD activities of KOG group was increased(F=3.619, p=0.052, ANOVA test), and RBC catalase activities of all experimental group were not significantly different. RBC GSH-px activities of KOG group was increased(F=6.844, p=0.008, ANOVA test). The changes of Plasma triglyceride was not significantly different. Plasma total lipid of KOG group showed significant decrease compared to the control group(F=19.337, p=0.0001, ANOVA test). Plasma total cholesterol and HDL-cholesterol concentrations of all experimental groups were not significantly different. Conclusions : According to the above results, it is considered that Kyungohkgo(瓊玉膏) is effective in inhibiting lipid peroxidation and increasing antioxidative enzyme activities in D-galactose induced aging rat.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.41
no.4
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pp.134-141
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2008
We have developed a numerical model for a remote ICP(inductively coupled plasma) system in 2D and 3D with gas distribution configurations and confirmed it by plasma diagnostics. The ICP source has a Cu tube antenna wound along a quartz tube driven by a variable frequency rf power source($1.9{\sim}3.2$ MHz) for fast tuning without resort to motor driven variable capacitors. We investigated what conditions should be met to make the plasma remotely localized within the quartz tube region without charged particles' diffusing down to a substrate which is 300 mm below the source, using the numerical model. OES(optical emission spectroscopy), Langmuir probe measurements, and thermocouple measurement were used to verify it. To maintain ion current density at the substrate less than 0.1 $mA/cm^2$, two requirements were found to be necessary; higher gas pressure than 100 mTorr and smaller rf power than 1 kW for Ar.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.08a
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pp.333-333
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2011
We have investigated the breakdown properties in liquids by high voltage pulse system. High voltage pulse power system is consisted of the Marx-generator with two capacitors (0.5 ${\mu}F$, withstanding voltage is 40 kV), to which the charging voltage can be applied to maximum 30 kV DC, spark gap switch and charging resistor of 20 $M{\Omega}$. We have made use of tungsten pin electrodes of anode-cathode (A-K), which are immersed into the liquids. The breakdown voltage and current signals are measured by high voltage probe (Tektronix P6015A) and current monitor (IPC CM-1.S). Especially the high speed breakdown or plasma propagation characteristics in the pulsed A-K gap have been investigated by using the high speed ICCD camera. We have measured the electron temperature through the Boltzmann plot method from the breakdown spectrums. Here the A-K gap has been changed by 1 mm, 2 mm, and 3 mm. The used liquids are distilled water and solution of salt (0.9 %). The output voltage and current signals at breakdown in distilled water are shown to be bigger than those in saline solution. The breakdown voltage and current characteristics in liquids will be discussed in accordance with A-K gap distances. It is also found that the electron temperatures and plasma densities in liquids are decreased in conformity with A-K gap.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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