Several applications of radio-frequency (RF) thermal plasma to film formation are reviewed. Three types of injection plasma processing (IPP) technique are first introduced for the deposition of materials. Those are thermal plasma chemical vapor deposition (CVD), plasma flash evaporation, and plasma spraying. Radio-frequency (RF) plasma and hybrid (combination of RF and direct current(DC)) plasma are next introduced as promising thermal plasma sources in the IPP technique. Experimental data for three kinds of processing are demonstrated mainly based on our recent researches of depositions of functional materials, such as high temperature semiconductor SiC and diamond, ionic conductor $ZrO_2-Y_2O_3$ and high critical temperature superconductor $YBa_2Cu_3O_7-x$. Special emphasis is given to thermal plasma flash evaporation, in which nanometer-scaled clusters generated in plasma flame play important roles as nanometer-scaled clusters as deposition species. A novel epitaxial growth mechanism from the "hot" clusters namely "hot cluster epitaxy (HCE)" is proposed.)" is proposed.osed.
한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
/
pp.929-931
/
2006
In this experiment, we have investigated that the transported space charge between sub-pixels in AC-plasma cell discharge. The test pulse 30 V, $5{\mu}s$ was applied to the address electrodes of neighbor cells of discharge occurred cells. And we have measured the transported space charge between sub-pixels in accordance with the various last sustain pulse widths t(time gap between the rising edges of sustain and test pulses) of 0.2 to $3{\mu}s$. It was observed that the peak value of transported space charge has been shown to be 21.5pC at $1.0{\mu}s$. And the IR peak value have been occured after $0.51{\mu}s$ with respect to sustain voltage.
The particle generation during the plasma enhanced process is highly considered as serious problem in the semiconductor manufacturing industry. The material for the plasma processing chamber requires the plasma etching characteristics which are homogeneously etched surface and low plasma etching depth for preventing particulate contamination and high durability. We found that the materials without grain boundaries can prevent the particle generation. Therefore, the amorphous material with the low plasma etching rate may be the best candidate for the plasma processing chamber instead of the polycrystalline materials such as yttria and alumina. Three glasses based on $SiO_2$ and $Al_2O_3$ were prepared with various rare-earth elements (Gd, Y and La) which are same content in the glass. The glasses were plasma etched in the same condition and their plasma etching rate was compared including reference materials such as Si-wafer, quartz, yttria and alumina. The mechanical and thermal properties of the glasses were highly related with cationic field strength (CFS) of the rare-earth elements. We assumed that the plasma etching resistance may highly contributed by the thermal properties of the fluorine byproducts generated during the plasma exposure and it is expected that the Gd containing glass may have the highest plasma etching resistance due to the highest sublimation temperature of $GdF_3$ among three rare-earth elements (Gd, Y and La). However, it is found that the plasma etching results is highly related with the mechanical property of the glasses which indicates the cationic field strength. From the result, we conclude that the glass structure should be analyzed and the plasma etching test should be conducted with different condition in the future to understand the plasma etching behavior of the glasses perfectly.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
/
pp.263-265
/
2005
In the alternative current plasma display panel(AC-PDP) technology, it is very important to remove the image sticking for improving an image quality. In this paper, we have investigated the driving method of alternative current plasma display panel(AC-PDP) for preventing image sticking. We have investigated the driving method of alternative current plasma display panel(AC-PDP) for preventing image sticking. The preventing method of image sticking was proposed by adopting the Sticking Remove Pulse(SRP). The variation of brightness is most affected by the MgO to be formed at the surface of the phosphor layer. As a result, the image sticking is reduced when the driving method adopted an SRP.
This paper is devoted to a study of the characterization of the plasma state. For the purpose of monitoring plasma condition, we experiment on reactive ion etching (RIE) process. Without actual etch process, generated oxygen plasma, measurement of plasma emission intensity. Changing plasma process parameters, oxygen flow, RF power and chamber pressure have controlled. Using the optical emission spectroscopy (OES), we conform to the unique oxygen wavelength (777nm), the most powerful intensity region of the designated range. Increase of RF power and chamber pressure, emission intensity is increased. oxygen flow is not affect to emission intensity.
표준 마요네즈 제조에 Bovine Plasma를 첨가하거나, 난황의 일부 혹은 전량을 Bovine Plasma으로 대체하여 마요네즈를 제조하고 점도, 색도, 유화 안정성, 관능검사를 통하여 Bovine Plasma의 마요네즈의 제조적성을 검토한 결과는 다음과 같다. 1. 점도는 표준 마요네즈(난황비율 12%) 제조 배합비에 0.01~0.1% Bovine Plasma를 첨가하였을 때 다소 증가하였고, 난황 첨가비를 50% 감소한 시료에서도 l~3% Bovine Plasma를 첨가함에 따라 표준 마요네즈와 근접 한 점도를 나타냈다. 난황을 전혀 첨가하지 않고 Bovine Plasma만으로 제조한 경우도 5% 첨가수준에서 표준 마요네즈에 근접한 점도를 나타냈다. 2. 색도의 측정결과, 난황의 비율(6, 12%)과 Bovine Plasma의 첨가비율에 따라 명도값을 나타내는 L값은 전체 시료간, 저장기간(3$0^{\circ}C$ 21일간)에 따른 큰 차이를 보이지 않았으나, 황색도를 나타내는b값은 난황의 비율에 따라 뚜렷한 차이를 보였고, Bovine Plasma의 첨가비율에 따른 차이는 보이지 않았다. 3. Bovine Plasma의 첨가가 유화 안정성에 미치는 영향(3$0^{\circ}C$ 21일간)을 검토한 결과, 표준 마요네즈에 Bovine Plasma를 첨가함에 따라 안정성이 증가하였고, 난황비율을 표준 마요네즈의 50%로 감소시켜도 1~3% Bovine Plasma를 첨가함에 따라 표준 마요네즈와 근접한 유화 안정성을 보였다. 난황을 전혀 첨가하지 않고 Bovine Plasma만으로 제조한 경우도 5% 첨가수준에서 표준 마요네즈와 근접한 유화 안정성을 나타냈다. 4. 관능검사에서 표준 마요네즈에 0.0l~0..1% Bovine Plasma를 첨가한 시료는 Bovine Plasma의 첨가비율에 따라 항목별로 다소 차이는 있었으나 전반적으로 낮은 기름냄새, 달걀냄새, 식초냄새, 기름맛, 달걀맛, 느끼한 맛, 식초맛을 나타내고, 냄새와 맛의 조화도가 높아 표준 마요네즈보다 선호되는 것으로 평가되었다. 또한, 난황의 첨가비율을 50 %로 감소시키고 l~3% Bovine Plasma를 첨가하여 제조한 마요네즈는 색을 제외하고는 모든 항목에서 표준 마요네즈와 유의적인 차이를 보이지 않았다. 반면에, 난황을 전혀 첨가하지 않고 5%의 Bovine Plasma만으로 제조한 마요네즈는 표준 마요네즈와 비교했을 때 다소 강한 기름냄새와 기름맛, 난황이 첨가되지 않아 색에 대한 기호도의 저하 등 관능적인 면에서 전반적으로 낮은 결과를 보였다.
Effect of improvement of the dielectric barrier discharge (DBD) plasma system on the inactivation performance of bacteria were investigated. The improvement of plasma reactor was performed by combination with the basic plasma reactor and UV process or combination with the basic plasma reactor and circulation system which was equipped with gas-liquid mixer. Experimental results showed that tailing effect was appeared after the exponential decrease in basic plasma reactor. There was no enhancement effect on the Ralstonia Solanacearum inactivation with combination of basic plasma process and UV process. The application of gas-liquid mixing device on the basic plasma reactor reduced inactivation time and led to complete sterilization. The effect existence of gas-liquid mixing device, voltage, air flow rate (1 ~ 5 L/min), water circulation rate (2.8 ~ 9.4 L/min) in gas-liquid mixing plasma, plasma voltage and UV power of gas-liquid mixing plasma+UV process were evaluated. The optimum air flow rate, water circulation rate, voltage of gas-liquid mixing system were 3 L/min, 3.5 L/min and 60 V, respectively. There was no enhancement effect on the Ralstonia Solanacearum inactivation with combination of gas-liquid mixing plasma and UV process.
The ion-induced secondary electron emission coefficient ${\gamma}$ and work function for MgO thin film with $O_2$ plasma treatment has been investigated by ${\gamma}$ -FIB (focused ion beam) system. The MgO thin film deposited from sintered material with $O_2$ plasma treatment is found to have higher ${\gamma}$ and lower work function than those without $O_2$ plasma treatment. The energy of various ions used has been ranged from 100eV to 200eV throughout this experiment. It is found that the highest secondary electron emission coefficient ${\gamma}$ has been achieved for 10 minutes of $O_2$ plasma treatment under RF power of 50W.
Elevated plasma homocysteine is an independent risk factor for the development of cardiovascular disease. Exercise is generally believed to reduce the plasma homocysteine levels and therefore, being beneficial for cardiovascular disease (CVD). However, there is a possibility that athletes undergoing strenuous training and competition which increase oxidative stress may suffer from increased plasma homocysteine levels. The purpose of this study was to investigate the influence of endurance training on the plasma concentrations of B vitamins and homocysteine in 23 male adolescent field hockey players. Data collection and blood sampling was performed during the training period and non-training period. Following the training period, significant changes in energy and vitamin B6 intakes were observed in these subjects. Plasma vitamin B2, pyridoxal phosphate (PLP) and homocysteine levels were significantly higher during the training period than non-training period, whereas no difference was observed in plasma folate and vitamin B12 levels. Positive correlation was observed between plasma folate and folic acid intakes. When energy, B vitamin intakes were adjusted there was a significant negative correlation between plasma homocysteine levels and plasma riboflavin, folate and vitamin B12 levels. In conclusion, it is suggested that athletes with oxidative stress by strenuous exercise may need B vitamins since riboflavin, folic acid and vitamin Bl2 were shown to be negatively correlated with plasma homocysteine in athletes during the training period.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나
그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며,
이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.
[게시일 2004년 10월 1일]
이용약관
제 1 장 총칙
제 1 조 (목적)
이 이용약관은 KoreaScience 홈페이지(이하 “당 사이트”)에서 제공하는 인터넷 서비스(이하 '서비스')의 가입조건 및 이용에 관한 제반 사항과 기타 필요한 사항을 구체적으로 규정함을 목적으로 합니다.
제 2 조 (용어의 정의)
① "이용자"라 함은 당 사이트에 접속하여 이 약관에 따라 당 사이트가 제공하는 서비스를 받는 회원 및 비회원을
말합니다.
② "회원"이라 함은 서비스를 이용하기 위하여 당 사이트에 개인정보를 제공하여 아이디(ID)와 비밀번호를 부여
받은 자를 말합니다.
③ "회원 아이디(ID)"라 함은 회원의 식별 및 서비스 이용을 위하여 자신이 선정한 문자 및 숫자의 조합을
말합니다.
④ "비밀번호(패스워드)"라 함은 회원이 자신의 비밀보호를 위하여 선정한 문자 및 숫자의 조합을 말합니다.
제 3 조 (이용약관의 효력 및 변경)
① 이 약관은 당 사이트에 게시하거나 기타의 방법으로 회원에게 공지함으로써 효력이 발생합니다.
② 당 사이트는 이 약관을 개정할 경우에 적용일자 및 개정사유를 명시하여 현행 약관과 함께 당 사이트의
초기화면에 그 적용일자 7일 이전부터 적용일자 전일까지 공지합니다. 다만, 회원에게 불리하게 약관내용을
변경하는 경우에는 최소한 30일 이상의 사전 유예기간을 두고 공지합니다. 이 경우 당 사이트는 개정 전
내용과 개정 후 내용을 명확하게 비교하여 이용자가 알기 쉽도록 표시합니다.
제 4 조(약관 외 준칙)
① 이 약관은 당 사이트가 제공하는 서비스에 관한 이용안내와 함께 적용됩니다.
② 이 약관에 명시되지 아니한 사항은 관계법령의 규정이 적용됩니다.
제 2 장 이용계약의 체결
제 5 조 (이용계약의 성립 등)
① 이용계약은 이용고객이 당 사이트가 정한 약관에 「동의합니다」를 선택하고, 당 사이트가 정한
온라인신청양식을 작성하여 서비스 이용을 신청한 후, 당 사이트가 이를 승낙함으로써 성립합니다.
② 제1항의 승낙은 당 사이트가 제공하는 과학기술정보검색, 맞춤정보, 서지정보 등 다른 서비스의 이용승낙을
포함합니다.
제 6 조 (회원가입)
서비스를 이용하고자 하는 고객은 당 사이트에서 정한 회원가입양식에 개인정보를 기재하여 가입을 하여야 합니다.
제 7 조 (개인정보의 보호 및 사용)
당 사이트는 관계법령이 정하는 바에 따라 회원 등록정보를 포함한 회원의 개인정보를 보호하기 위해 노력합니다. 회원 개인정보의 보호 및 사용에 대해서는 관련법령 및 당 사이트의 개인정보 보호정책이 적용됩니다.
제 8 조 (이용 신청의 승낙과 제한)
① 당 사이트는 제6조의 규정에 의한 이용신청고객에 대하여 서비스 이용을 승낙합니다.
② 당 사이트는 아래사항에 해당하는 경우에 대해서 승낙하지 아니 합니다.
- 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재한 경우
- 기타 규정한 제반사항을 위반하며 신청하는 경우
제 9 조 (회원 ID 부여 및 변경 등)
① 당 사이트는 이용고객에 대하여 약관에 정하는 바에 따라 자신이 선정한 회원 ID를 부여합니다.
② 회원 ID는 원칙적으로 변경이 불가하며 부득이한 사유로 인하여 변경 하고자 하는 경우에는 해당 ID를
해지하고 재가입해야 합니다.
③ 기타 회원 개인정보 관리 및 변경 등에 관한 사항은 서비스별 안내에 정하는 바에 의합니다.
제 3 장 계약 당사자의 의무
제 10 조 (KISTI의 의무)
① 당 사이트는 이용고객이 희망한 서비스 제공 개시일에 특별한 사정이 없는 한 서비스를 이용할 수 있도록
하여야 합니다.
② 당 사이트는 개인정보 보호를 위해 보안시스템을 구축하며 개인정보 보호정책을 공시하고 준수합니다.
③ 당 사이트는 회원으로부터 제기되는 의견이나 불만이 정당하다고 객관적으로 인정될 경우에는 적절한 절차를
거쳐 즉시 처리하여야 합니다. 다만, 즉시 처리가 곤란한 경우는 회원에게 그 사유와 처리일정을 통보하여야
합니다.
제 11 조 (회원의 의무)
① 이용자는 회원가입 신청 또는 회원정보 변경 시 실명으로 모든 사항을 사실에 근거하여 작성하여야 하며,
허위 또는 타인의 정보를 등록할 경우 일체의 권리를 주장할 수 없습니다.
② 당 사이트가 관계법령 및 개인정보 보호정책에 의거하여 그 책임을 지는 경우를 제외하고 회원에게 부여된
ID의 비밀번호 관리소홀, 부정사용에 의하여 발생하는 모든 결과에 대한 책임은 회원에게 있습니다.
③ 회원은 당 사이트 및 제 3자의 지적 재산권을 침해해서는 안 됩니다.
제 4 장 서비스의 이용
제 12 조 (서비스 이용 시간)
① 서비스 이용은 당 사이트의 업무상 또는 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간 운영을
원칙으로 합니다. 단, 당 사이트는 시스템 정기점검, 증설 및 교체를 위해 당 사이트가 정한 날이나 시간에
서비스를 일시 중단할 수 있으며, 예정되어 있는 작업으로 인한 서비스 일시중단은 당 사이트 홈페이지를
통해 사전에 공지합니다.
② 당 사이트는 서비스를 특정범위로 분할하여 각 범위별로 이용가능시간을 별도로 지정할 수 있습니다. 다만
이 경우 그 내용을 공지합니다.
제 13 조 (홈페이지 저작권)
① NDSL에서 제공하는 모든 저작물의 저작권은 원저작자에게 있으며, KISTI는 복제/배포/전송권을 확보하고
있습니다.
② NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 상업적 및 기타 영리목적으로 복제/배포/전송할 경우 사전에 KISTI의 허락을
받아야 합니다.
③ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 보도, 비평, 교육, 연구 등을 위하여 정당한 범위 안에서 공정한 관행에
합치되게 인용할 수 있습니다.
④ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 무단 복제, 전송, 배포 기타 저작권법에 위반되는 방법으로 이용할 경우
저작권법 제136조에 따라 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처해질 수 있습니다.
제 14 조 (유료서비스)
① 당 사이트 및 협력기관이 정한 유료서비스(원문복사 등)는 별도로 정해진 바에 따르며, 변경사항은 시행 전에
당 사이트 홈페이지를 통하여 회원에게 공지합니다.
② 유료서비스를 이용하려는 회원은 정해진 요금체계에 따라 요금을 납부해야 합니다.
제 5 장 계약 해지 및 이용 제한
제 15 조 (계약 해지)
회원이 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 [가입해지] 메뉴를 이용해 직접 해지해야 합니다.
제 16 조 (서비스 이용제한)
① 당 사이트는 회원이 서비스 이용내용에 있어서 본 약관 제 11조 내용을 위반하거나, 다음 각 호에 해당하는
경우 서비스 이용을 제한할 수 있습니다.
- 2년 이상 서비스를 이용한 적이 없는 경우
- 기타 정상적인 서비스 운영에 방해가 될 경우
② 상기 이용제한 규정에 따라 서비스를 이용하는 회원에게 서비스 이용에 대하여 별도 공지 없이 서비스 이용의
일시정지, 이용계약 해지 할 수 있습니다.
제 17 조 (전자우편주소 수집 금지)
회원은 전자우편주소 추출기 등을 이용하여 전자우편주소를 수집 또는 제3자에게 제공할 수 없습니다.
제 6 장 손해배상 및 기타사항
제 18 조 (손해배상)
당 사이트는 무료로 제공되는 서비스와 관련하여 회원에게 어떠한 손해가 발생하더라도 당 사이트가 고의 또는 과실로 인한 손해발생을 제외하고는 이에 대하여 책임을 부담하지 아니합니다.
제 19 조 (관할 법원)
서비스 이용으로 발생한 분쟁에 대해 소송이 제기되는 경우 민사 소송법상의 관할 법원에 제기합니다.
[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.