• 제목/요약/키워드: p-Si

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(p)ZnTe/(n)Si 태양전지와 (n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si 복접합 박막의 광도전 특성에 관한 연구 (A Study on the Photo-Conductive Characteristics of (p)ZnTe/(n)Si Solar Cell and (n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si Poly-Junction Thin Film)

  • 전춘생;김완태;허창수
    • 태양에너지
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    • 제11권3호
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    • pp.74-83
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    • 1991
  • 본 논문은 substrate의 온도를 $200{\pm}1^{\circ}C$ 정도로 유지하며 진공저항 가열 증착법을 이용하여 (p)ZnTe/(n)Si 태양전지와 (n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si 복접합 박막을 제작한 후 그 전기적 특성을 조사, 비교하였다. 제작한 (p)ZnTe/(n)Si 태양전지와(n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si 복접합 박막에 대하여 $100[mW/cm^2]$의 광조사 하에서 특성을 조사한바 다음과 같은 결과를 얻었다. 단략전류$[mA/cm^2]$ (p)ZnTe/(n)Si:28 (n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si:6.5 개방전압[mV] (p)ZnTe/(n)Si:450 (n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si:250 충실도, FF (p)ZnTe/(n)Si:0.65 (n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si:0.27 변환효율[%] (p)ZnTe/(n)Si:8.19 (n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si:2.3 제작된 박막은 열처리에 의해 성능이 향상되지만 (p)ZnTe/(n)Si 태양전지는 약 $470^{\circ}C$ 이상의 온도와 15분 이상의 열처리 시간에서 그리고 (n)CdS-(p)ZnTe/(n)Si 복접합 박막은 약 $580^{\circ}C$ 이상의 온도와 15분 이상의 열처리 시간에서는 박막의 각종 구조결함으로 인한 감소현상을 나타내었다. 열처리 온도의 증가에 따라 박막의 표면저항은 감소하였다.

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비정질 p-SiC/i-SiC/i-Si/n-Si 박막 태양전지에서 i-SiC 완충층의 역할 (Roles of i-SiC Buffer Layer in Amorphous p-SiC/i-SiC/i-Si/n-Si Thin Film Solar Cells)

  • 김현철;신혁재;이재신
    • 한국재료학회지
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    • 제9권12호
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    • pp.1155-1159
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    • 1999
  • 플라즈마 화학증착 (PECVD) 장비를 이용하여 $SnO_2$ 투명전도막이 피막된 유리기판 위에 p-SiC/i-Si/n-Si 이종접합 태양전지를 제작하였다. p-SiC 층의 증착중에 기체조성 x=$CH_4/\;(SiH_4+CH_4)$의 변화에 대한 태양전지의 광기전 특성을 관찰하였다. 기체조성(x)이 0~0.4의 범위에서 p-SiC 창층의 광학적 밴드갭의 증가로 인하여 태양전지의 효율은 증가하였으나, 그 이상의 기체조성에서는 p-SiC/i-Si 계면에서의 조성불일치가 증가하여 태양전지의 효율이 감소하였다. 이러한 계면문제는 p-SiC 층과 i-Si 계면에서의 조성불일치가 증가하여 태양전지의 효율이 감소하였다. 이러한 계면문제는 p-SiC 층과 I-Si 층 사이에 I-SiC 완충층을 삽입함으로써 크게 감소하였다. 그 결과 유효면적이 $1cm^2$인 glass/$SnO_2$/p-SiC/i-SiC/i-Si/n-Si/Ag 구조의 박막 태양전지는 100mW/$cm^2$ 조도 하에서 8.6%의 효율을 나타내었다. ($V_{oc}$=0.85V, $J_{sc}$=16.42mA/$cm^2$, FF=0.615)

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Al-Si/$SiC_p$ 복합재료에서 SiC의 편석에 미치는 응고 조건의 영향 (Influence of Solidification Condition on the Segregation of SiC Particles in the Al-Si/$SiC_p$ Composites)

  • 김종찬;권혁무
    • 한국주조공학회지
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    • 제17권2호
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    • pp.180-187
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    • 1997
  • The influence of solidification condition on the segregation of SiC particles in the $Al-xSi/6wt%SiC_p$(x: 6, 10, 14, 18${\cdot}$wt%) composites was investigated in the study. The results are as follows: 1) During the counter-gravity unidirectional solidification of $Al-Si/SiC_p$ composites melt, most of the SiC particles are pushed to the top of the casting. 2) The SiC particles pushing in the $Al-Si/SiC_p$ composite melts are not observed, when the interface velocity of melts increases more than 1.41 ${\mu}m/sec$. 3) The SiC particles are entrapped in the interdendrite regions, when the sizes of SiC particles in the $Al-Si/SiC_p$ composites are large than ${\varphi}22{\mu}m$.

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Reduction of Phosphate Adsorption by Ion Competition with Silicate in Soil

  • Lee, Yong-Bok;Kim, Pil-Joo
    • 한국환경농학회지
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    • 제26권4호
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    • pp.286-296
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    • 2007
  • To increase phosphate (P) availability in soils, the efficiency of silicate (Si) in reducing P adsorption was investigated by competitive adsorption tests under changing conditions of pH, ion concentrations, and order of anion addition along with single adsorption properties of each ion at $20^{\circ}C$. In the single ion adsorption study, P and Si ions showed the opposite reaction patterns: phosphate adsorption decreased with increasing pH and attained adsorption maximum however, silicate adsorption increased with increasing pH without attaining adsorption maximum. Phosphorus and Si adsorption were influenced by pH in the range of 5.0 - 9.0 and the type and amount of P and Si concentration. Silicate added to soil before P or in a mixture with P significantly reduced P adsorption above pH 7.0; however, there was no significant Si-induced decreased in P adsorption at pH 5.0 when anions were added as mixture. The efficiency of Si in reducing P adsorption increased with increasing Si concentration and pH. The effect of P on Si adsorption was relatively small at pH 5.0 and no effect of P on silicate adsorption was observed at pH 9.0. The presence of Si strongly depressed P adsorption when Si was added before P compared to P and Si added as a mixture. These results suggest that application of Si may decrease P adsorption and increase the availability of P in soils. Furthermore, a Si source would be better to add before P application to enhance the availability of P in soils.

액상가압공정을 이용한 CNF/Mg 복합재료의 제조 및 특성평가 (Fabrication and Characterization of CNFs/Magnesium Composites Prepared by Liquid Pressing Process)

  • 김희봉;이상복;이진우;이상관;김양도
    • Composites Research
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    • 제25권4호
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    • pp.93-97
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    • 2012
  • 본 연구에서는 액상가압공정을 이용하여 탄소나노섬유(carbon nano fiber, CNF)를 강화재로 하는 AZ91 마그네슘 복합재를 제조하였다. CNF의 분산성 및 마그네슘 합금 용탕과의 젖음성을 향상시키고자 CNF를 마이크로 크기의 실리콘 카바이드 입자(silicon carbide particle, $SiC_p$)와 혼합하였다. 또한, CNF와 $SiC_p$의 혼합분말에 무전해도금법으로 니켈을 코팅하였다. 액상가압공정에서 AZ91 용탕은 무처리된 CNF, CNF와 $SiC_p$의 혼합분말(CNF+$SiC_p$), 니켈 코팅된 CNF와 $SiC_p$의 복합분말((CNF+$SiC_p$)/Ni)과 같이 세 종류의 강화재로 정수압에 의해 함침하여 복합재를 제조하였다. 무처리된 CNF 강화 복합재료에서는 일부 CNF 응집체가 관찰되었으나 CNF+$SiC_p$ 및 (CNF+$SiC_p$)/Ni 강화 복합재에서는 CNF가 기지재 내에 균일하게 분산되었음을 확인하였다. 압축시험결과, CNF+$SiC_p$ 및 (CNF+$SiC_p$)/Ni 강화 복합재의 압축강도가 무처리된 CNF 강화 복합재보다 각각 38%와 28% 향상되었다.

과공정 Al-Si합금의 초정 Si 미세조직변화에 미치는 P 첨가와 fading 시간의 영향 (Effects of P Addition and Fading Time on the Primary Si Microstructure Changes of Hypereutectic Al-Si Alloy)

  • 박주열;김억수;이광학
    • 한국주조공학회지
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    • 제24권2호
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    • pp.85-93
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    • 2004
  • Mechanical property of hypereutectic Al-Si alloy is changed according to size and distribution of primary Si. Consequently, the study on the refinement for primary Si is progressed for a long time. But such effect of refinement comes out fading phenomena with the lapse of time. Therefore, this study investigated the optimum condition of primary Si refinement for hypereutectic Al-Si alloy. And we observed various primary Si size with P's fading phenomena. The experiment results were as follows. For experiment of primary Si refinement, we made hypereutectic Al-Si alloy with various amounts of P addition. As a result of experiment, we obtained the fine microstructure at 0.01wt.%P. And the optimum condition of P addition, for preventing from growth of primary Si by P fading, is estimated 0.1wt.%P.

$SiC_p/Al-Si$ 복합재료의 고온변형 특성 (High Temperature Deformation Behavior of $SiC_p/Al-Si$ Composites)

  • 전정식;고병철;김명호;유연철
    • 소성∙가공
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    • 제3권4호
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    • pp.427-439
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    • 1994
  • The high temperature deformation behavior of $SiC_p/Al-Si$ composites and Al-Si matrix was studied by hot torsion test in a range of temperature from $270^{\circ}C$ to $520^{\circ}C$ and at strain rate range of $1.2{\times}10_{-3}~2.16{\times}10_{-1}/sec$. The hot restoration mechanisms for both matrix and composites were found to be dynamic recrystallization(DRX) from the investigation of flow curves and microstructural evolutions. The Si precipitates and SiC particles promoted DRX, and the peak strain$({\varepsilon}_p)$ of the composites was smaller than that of the matrix. Flow stresses of $SiC_p/Al-Si$ composites were found to be generally higher than the matrix, but the difference was quite small at higher temperature due to the decrease of capability of load transfer by SiC particles. With increasing temperature, failure strain of matrix and composites are inclined to increase, the increasing value of failure strain for the $SiC_p/Al-Si$ composites was small compared to that of matrix. The stress dependence of both materials on strain rate() and temperature(T) was examined by hyperbolic sine law, $\.{\varepsilon}=A_1[sinh({\alpha}{\cdot}{\sigma})]_n$exp(-Q/RT)

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금속-치환 $AlPO_4-5$ 분자체에서 가교 $T_1-OH-T_2(T_1$=Al,B 그리고 $T_2$= P, Si)에 대한 성질 : MNDO (Properties of $T_1-OH-T_2$(T1 = Al, B and T2 = P, Si) Bridges on Metal-Substituted $AlPO_4-5$ Molecular Sieves : MNDO Calculations)

  • 손만식;백우현
    • 대한화학회지
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    • 제38권1호
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    • pp.1-7
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    • 1994
  • 알루미노인산염 족($AlPO_4-5$, BAPO-5, 그리고 SAPO-5)분자체의 구조 골격인 가교 $$T_1-OH-T_2$(T_1$ = Al, B 그리고 $T_2=$ P, Si) 안정성 및 가교 OH 그룹 이온성을 연구하기 위하여 반경험적 MNDO 계산 방법으로 연구하였다. 이러한 계산은 Al-OH-P, B-OH-P 그리고 Al-OH-Si덩어리 모델로써 실행하였다. Al-OH-P가교 모델에서 Al대신에 B원자를 치환할 때 B-OH-Si가교에서는 변형이 우선적으로 일어났으나, P 대신에 Si원자를 치환한 Al-OH-Si가교에서는 회전이 우선적으로 일어났다. 이러한 모델 덩어리에서 OH그룹 이온성 및 가교 안정성은 B-OH-P < Al-OH-P < Al-OH-Si 가교 순서로 증가하였다.

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유기 금속 화학 증착법에 의한 Si 기판 위에 GaP 층 성장시 에피의 초기 단계의 성장 매개 변수에 영향

  • 강대선;서영성;김성민;신재철;한명수;김효진
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.209.1-209.1
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    • 2013
  • GaP는 가시광선 발광다이오드을 얻을 수 있는 적절한 재료중의 하나로 해당영역의 파장에 대하여 높은 양자효율을 얻을 수 있고, 깊은 준위 재결합이 없기 때문에 GaP 녹색 및 As 첨가한 GaAsP 적색 LED 에 적용할 수 있습니다. 또한, 상온에서 2.2 eV 에 해당하는 넓은 에너지 밴드갭을 가지고 있으므로, 소음이 없는 자외선 검출기에도 적합합니다. 이 물질에 대한 소자들은 기존에 GaP 기판을 사용하였습니다. 최근, GaP 와 격자상수가 비슷한 Si 기판을 활용하여 그 위에 성장하는 방법에 대한 관심이 많아졌습니다. Si는 물리적 및 화학적으로 안정하고 딱딱한 소재이며 대면적 기판을 쉽게 얻을 수 있어 전자 기기 및 대규모 집적 회로의 좋은 소재입니다. Si 와 대조적으로 GaP은 깨지기 쉬운 재료이며 GaP 기판은 Si와 같은 대면적 기판을 얻을 수 없습니다. 이러한 문제의 한 가지 해결책은 Si 기판위에 GaP 층의 성장입니다. GaP 과 Si의 조합은 현재의 광전소자 들에 더하여 더 많은 응용프로그램들을 가능하게 할 것입니다. 그러나, Si 기판위에 GaP 성장 시 삼차원적 성장 및 역위상 경계면과 같은 문제점들이 발생하므로 질이 높고 균일한 결정의 GaP 를 얻기가 어렵습니다. 따라서, Si 에 GaP 의 성장시 초기 단계를 제어하는 성장 기술이 필요합니다. 본 연구에서는, 유기금속화학증착법을 이용하여 Si 기판위에 양질의 GaP를 얻을 수 있는 최적의 성장조건을 얻고자 합니다. 실험 조건은 Si에 GaP의 에피택셜 성장의 초기 단계에 영향을 주는 V/III 비율, 성장압력, 기판방향 등을 가변하는 조건으로 진행하였습니다. V/III 비율은 100~6400, 성장 압력은 76~380 Torr로 진행하였고, Si 기판은 just(001)과 2~6도 기울어진 (001) 기판을 사용하였습니다.

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K 및 Al 이중이온주입된 SiO$_2$ 박막의 pH, pNa 및 pK 농도 감지특성에 관한 연구 (A Study on the pH-, pNa- and pK-Sensing Properties of K and Al Coimplanted SiO$_2$ Thin Films)

  • 김병수;신백균;이붕주;이덕출
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제52권7호
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    • pp.293-297
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    • 2003
  • Silicon dioxide (SiO$_2$) layers were fabricated on Si$_3$N$_4$/SiO$_2$/Si layer structures by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD). Potassium and aluminum were then coimplanted by implanting potassium ions with the energy of 100 [keY] and dose of 5x10$^{16}$ [cm ̄$^2$] and 1x10$^{17}$ [cm ̄$^2$] into an aluminum buffer layer on the SiO$_2$Si$_3$N4/SiO$_2$/Si structure. The pH, pNa, and pK ion sensitivities of the resulting layers were investigated and compared to those of as-deposited silicon dioxide layer. The pK-sensitivity of the silicon dioxide was enhanced by the K and Al coimplantation. On the contrary, the pH and pNa-sensitivities of the coimplanted silicon dioxides were quite lower than that of the as-deposited silicon dioxide.