Background: The negative signaling provided by interactions of the co-inhibitory molecule, programmed death-1 (PD-1), and its ligands, B7-H1 (PD-L1) and B7-DC (PD-L2), is a critical mechanism contributing to tumor evasion; blockade of this pathway has been proven to enhance cytotoxic activity and mediate antitumor therapy. Here we evaluated the anti-tumor efficacy of AAV-mediated delivery of the extracellular domain of murine PD-1 (sPD-1) to a tumor site. Material and Methods: An rAAV vector was constructed in which the expression of sPD-1, a known negative regulator of TCR signals, is driven by human cytomegalovirus immediate early promoter (CMV-P), using a triple plasmid transfection system. Tumor-bearing mice were then treated with the AAV/sPD1 construct and expression of sPD-1 in tumor tissues was determined by semi quantitative RT-PCR, and tumor weights and cytotoxic activity of splenocytes were measured. Results: Analysis of tumor homogenates revealed sPD-1 mRNA to be significantly overexpressed in rAAV/sPD-1 treated mice as compared with control levels. Its use for local gene therapy at the inoculation site of H22 hepatoma cells could inhibit tumor growth, also enhancing lysis of tumor cells by lymphocytes stimulated specifically with an antigen. In addition, PD-1 was also found expressed on the surfaces of activated CD8+ T cells. Conclusion: This study confirmed that expression of the soluble extracellular domain of PD-1 molecule could reduce tumor microenvironment inhibitory effects on T cells and enhance cytotoxicity. This suggests that it might be a potential target for development of therapies to augment T-cell responses in patients with malignancies.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.08a
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pp.155.2-155.2
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2013
Strain-relaxed SiGe layer on Si substrate has numerous potential applications for electronic and opto- electronic devices. SiGe layer must have a high degree of strain relaxation and a low dislocation density. Conventionally, strain-relaxed SiGe on Si has been manufactured using compositionally graded buffers, in which very thick SiGe buffers of several micrometers are grown on a Si substrate with Ge composition increasing from the Si substrate to the surface. In this study, a new plasma process, i.e., the combination of PIII&D and HiPIMS, was adopted to implant Ge ions into Si wafer for direct formation of SiGe layer on Si substrate. Due to the high peak power density applied the Ge sputtering target during HiPIMS operation, a large fraction of sputtered Ge atoms is ionized. If the negative high voltage pulse applied to the sample stage in PIII&D system is synchronized with the pulsed Ge plasma, the ion implantation of Ge ions can be successfully accomplished. The PIII&D system for Ge ion implantation on Si (100) substrate was equipped with 3'-magnetron sputtering guns with Ge and Si target, which were operated with a HiPIMS pulsed-DC power supply. The sample stage with Si substrate was pulse-biased using a separate hard-tube pulser. During the implantation operation, HiPIMS pulse and substrate's negative bias pulse were synchronized at the same frequency of 50 Hz. The pulse voltage applied to the Ge sputtering target was -1200 V and the pulse width was 80 usec. While operating the Ge sputtering gun in HiPIMS mode, a pulse bias of -50 kV was applied to the Si substrate. The pulse width was 50 usec with a 30 usec delay time with respect to the HiPIMS pulse. Ge ion implantation process was performed for 30 min. to achieve approximately 20 % of Ge concentration in Si substrate. Right after Ge ion implantation, ~50 nm thick Si capping layer was deposited to prevent oxidation during subsequent RTA process at $1000^{\circ}C$ in N2 environment. The Ge-implanted Si samples were analyzed using Auger electron spectroscopy, High-resolution X-ray diffractometer, Raman spectroscopy, and Transmission electron microscopy to investigate the depth distribution, the degree of strain relaxation, and the crystalline structure, respectively. The analysis results showed that a strain-relaxed SiGe layer of ~100 nm thickness could be effectively formed on Si substrate by direct Ge ion implantation using the newly-developed PIII&D process for non-gaseous elements.
In this study, the hemolysis of Enterococcus faecalis BMSE-HMP strains, isolated from human breast milk, was investigated, and the anti-hemolytic and antimicrobial effects on multidrug-resistant (MDR) bacteria were investigated. The enzyme activity of E. faecalis BMSE-HMP 4 strains was measured, and it was found that the activities of esterase and esterase lipase were the highest. In addition, no hemolytic reaction was observed in any of the isolates. Subsequently, the anti-hemolytic activity against MDR strains causing hemolysis was evaluated. E. faecalis BMSE-HMP002 had the highest anti-hemolytic activity against Staphylococcus aureus CCARM 3855 at 75.71 ± 10.00%. The anti-hemolytic activity against Escherichia coli DC 2 CCARM 0238 and Pseudomonas aeruginosa CCARM 0223 showed that the activity of BMSE-HMP001 was highest at 76.92 ± 2.99% and 87.93 ± 1.93%, respectively. Examination of the antimicrobial effects against the MDR bacteria Staphylococcus spp., Escherichia spp., Pseudomonas spp., Salmonella spp., Klebsiella spp., Enterobacter spp., and E. faecalis BMSE-HMP strains showed antimicrobial effects against both gram-positive and gram-negative strains. Breastfeeding delivers enterococci into the intestinal tract of newborns by lactation, and its usefulness is attracting attention as it has been reported that enterococci have a potential effect on neonatal immune development. In this study, the hemolytic and antimicrobial effects of E. faecalis BMSE-HMP strains on MDR bacteria were investigated, to confirm their potential as useful lactic acid bacteria. Additional studies on the antibiotic resistance and toxicity of the E. faecalis BMSE-HMP strains, isolated in this study, are necessary to prove it safe for use.
Kang Sam-Woo;Park Chong-Min;Kim Il-Kwang;Do Lee-Mi;Lee Jong-Min
Journal of the Korean Chemical Society
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v.37
no.5
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pp.483-490
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1993
Voltammetric behavior of heavy lanthanide ions has been investigated by the DC, DPP and CV in acetonitrile solution. The reduction of $Gd^{3+}, Tb^{3+}, Dy^{3+}, Ho^{3+}, Er^{3+}, Tm^{3+} 및 Lu^{3+} proceed by three-electron change to the metallic state with totally irreversibility in 0.1M tetraethylammonium perchlorate. However, the reduction of Yb(Ⅲ) proceeds in two steps $(Yb^{3+} + e^- \Leftrightarrow Yb^{2+} and Yb^{2+} + 2e^- → Yb^0)$. The first reduction of Yb(Ⅲ) showed quasi reversible behavior, but the second reduction was irreversible in cyclic voltammetry. The cathodic peak current showed adsorptive properties in high concentration with lower sweep rate. The electroreduction of heavy lanthanides in water-acetonitrile mixture has been studied. In water-acetonitrile mixture, the negative shift of the peak potential and the decrease peak current were observed increasing water concentration. Also the Yb(Ⅲ) reduction to Yb(Ⅲ) has been deviated from quasi-reversible character with increase water amount. These results drive from the high solvation abilities of water which has high donor number.
Shirai, Hajime;Ohki, Tatsuya;Liu, Qiming;Ichikawa, Koki
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.388-388
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2016
Chemical mist deposition (CMD) of poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(styrene sulfonate) (PEDOT:PSS) was investigated with cavitation frequency f, solvent, flow rate of nitrogen, substrate temperature $T_s$, and substrate dc bias $V_s$ as variables for efficient PEDOT:PSS/crystalline (c-)Si heterojunction solar cells (Fig. 1). The high-speed camera and differential mobility analysis characterizations revealed that average size and flux of PEDOT:PSS mist depend on f, solvent, and $V_s$. The size distribution of mist particles including EG/DI water cosolvent is also shown at three different $V_s$ of 0, 1.5, and 5 kV for a f of 3 MHz (Fig. 2). The size distribution of EG/DI water mist without PEDOT:PSS is also shown at the bottom. A peak maximum shifted from 300-350 to 20-30 nm with a narrow band width of ~150 nm for PEDOT:PSS solution, whose maximum number density increased significantly up to 8000/cc with increasing $V_s$. On the other hand, for EG/water cosolvent mist alone, the peak maximum was observed at a 72.3 nm with a number density of ~700/cc and a band width of ~160 nm and it decreased markedly with increasing $V_s$. These findings were not observed for PEDOT:PSS/EG/DI water mist. In addition, the Mie scattering image of PEDOT:PSS mist under white bias light was not observed at $V_s$ above 5 kV, because the average size of mist became smaller. These results imply that most of solvent is solvated in PEDOT:PSS molecule and/or solvent is vaporized. Thus, higher f and $V_s$ generate preferentially fine mist particle with a narrower band width. Film deposition occurred when $V_s$ was impressed on positive to a c-Si substrate at a Ts of $30-40^{\circ}C$, whereas no deposition of films occurred on negative, implying that negatively charged mist mainly provide the film deposition. The uniform deposition of PEDOT:PSS films occurred on textured c-Si(100) substrate by adjusting $T_s$ and $V_s$. The adhesion of CMD PEDOT:PSS to c-Si enhanced by $V_s$ conspicuously compared to that of spin-coated film. The CMD PEDOT:PSS/c-Si solar cell devices on textured c-Si(100) exhibited a ${\eta}$ of 11.0% with the better uniformity of the solar cell parameters. Furthermore, ${\eta}$ increased to 12.5% with a $J_{sc}$ of $35.6mA/cm^2$, a $V_{oc}$ of 0.53 V, and a FF of 0.67 with an antireflection (AR) coating layer of 20-nm-thick CMD molybdenum oxide $MoO_x$ (n= 2.1) using negatively charged mist of 0.1 wt% 12 Molybdo (VI) phosphoric acid n-Hydrate) $H_3(PMo_{12}O_40){\cdot}nH_2O$ in methanol. CMD. These findings suggest that the CMD with negatively charged mist has a great potential for the uniform deposition of organic and inorganic on textured c-Si substrate by adjusting $T_s$ and $V_s$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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