In this study, PEO (plasma electrolytic oxidation) film formation behavior of AZ31 Mg alloy under application of 300 Hz pulse current was studied by the analyses of V-t curve, arc generation behavior, PEO film thickness and morphology of PEO films with treatment time in 0.05 M NaOH + 0.05 M Na2SiO3 + 0.1 M NaF solution. PEO films was observed to grow after 10 s of application of pulse current together with generation of micro-arcs. PEO film grew linearly with treatment time at a growth rate of about 5.58 ㎛/min at 200 mA/cm2 of pulse current but increasing rate of film formation voltage became lowered largely with increasing treatment time after passing about 250 V, suggesting that resistivity of PEO films during micro-arc generation decreases with increasing film formation voltage at more than 250 V.
Plasma display panel (PDP) is a type of flat panel display utilizing the light emission that is produced by gas discharge. Barrier Ribs of PDP separating each sub-pixel prevents optical and electrical crosstalk from adjacent sub-pixels. Mold for forming barrier ribs has been newly researched to overcome the disadvantages of conventional manufacturing process such as screen printing, sand-blasting and photosensitive glass methods. Mold for PDP barrier ribs have stripes of micro grooves transferring stripes of glass-material wall. In this paper. Stripes of grooves of which width 48 um, depth 124um, pitch 274um was acquired by machining the material of WC with dicing saw blade. Maximum roughness of the bottom and sidewall of the grooves was respectively 120 nm, 287 nm. Maximum tilt angle caused by difference between upper-most width and lower-most width was 2$^{\circ}$. Maximum Radius of curvature of bottom was 7.75 ${\mu}{\textrm}{m}$. This results meets the specification for barrier ribs of 50 inch XGA PDP. Forming the glass paste will be followed by using mold in the near future.
Aluminum Oxide($Al_2O_3$) ceramics are excellent candidates for such applications due to their outstanding mechanical, thermal, and tribological properties. However, they are difficult to machine using conventional mechanical methods. Carbon fillers, such as carbon nanotubes(CNT) and graphene nanoplatelets(GNP)can be dispersed in a ceramic matrix to improve the mechanical and electrical properties. In this study, CNT and Graphene reinforced hybrid ceramic composites were fabricated using the spark plasma sintering method at a temperature of $1,500^{\circ}C$, pressure of 40 MPa, and soaking time of 10min. Besides this, the material properties such as microstructure, crystal structure, hardness, and electrical conductivity were analyzed using FE-SEM, XRD, Vickers, and the 4-point probe method. A micro machining test was carried out to compare the effects of the material properties and the machining performance for CNT and Graphene reinforced ceramic composites.
Cathode is an essential component used in plasma etching process which is to make micro pattern on the silicon wafer. The currently used cathodes produce particles at the high temperature plasma etching process. To overcome this problem, a 'Silicon Only Cathode' was developed. This 'Silicon Only Cathode' requires manufacturing process changes due to the change of shapes, material features, and machining characteristics of work materials. This research investigates the small hole drilling process. The conclusion is that PCD drills with twist angles of $20^{\circ}$ and $25^{\circ}$ were tested for small hole drilling and the experimental results indicate that the drill with $25^{\circ}$ twist angle drill causes less thrust force.
The effects of gas composition, pressure, temperature and time on the case thickness, hardness and nitride formation in the surface of tool steels(STD11 and STD61) have been studied by micro-pulse plasma nitriding. External compound layer and internal diffusion layer and the diffusion layer were observed in the nitrided case of tool steels. The relative amounts and kind of phases formed in the nitrided case changed with the change of nitriding conditions. Generally, only nitride phases such as ${\gamma}(Fe_4N)$, ${\varepsilon}(Fe_{2-3}N)$, or $Cr_{1.75}V_{0.25}N_2$ phases were detected in the compound layer, while nitride and carbide phases such as ${\varepsilon}-nitride(Fe_{2-3}N)$, $(Cr,Fe)_{\gamma}C_3$ or $Fe_3C$ were detected in the diffusion layer by XRD analysis. The thickness of compound layer increased with the increase of nitrogen content in the gas composition. Maximum case depth was obtained at gas pressure of 200Pa.
The effects of MCC and palm oil at different levels on lipid metabolism were assessed in adolescent rat. Dietary fat levels were 20% and 40% (kcal/kcal) and MCC level were 0%, 2%, and 4% (wt/wt). The experimental period took 8 weeks. During the experiment, weight gain and food efficiency ration were not affected by dietary factors. The weight of thymus however, was lower in high fat groups than in middle fat groups. The contents of total lipid and total cholesterol in plasma and HDL-cholesterol in plasma and HDL-cholesterol were significantly affected by dietary factors. The concentrations of cholesterol in LDL and VLDL , and the triglyceride content of VLDL was higher in high fat groups than in middle fat groups. Adding MCC lowered the LDL triglyceride in the high fat groups. The analysis of plasma fatty acids generally reflected the composition of the dietary palm oil. MCC had significant effects on total lipid and triglyceride of feces, but not on total cholesterol . In conclusion, the level of MCC had little hypolipodemic effects on lipid metabolism in rats fed a high fat diet. the middle fat group that contained 4% MCC showed increased contents of fecal triglyceride than the others, indicating that MCC had an effect on lipid absorption. Therefore, the other physiological functions of MCC need to be tested for their useful applications.
Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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제24권3호
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pp.43-51
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2000
The effect of time, temperature and gas composition on the case hardened thickness, hardness and nitride formation in the surface of ductile cast iron(GCD400) have been studied by micro-pulse plasma technique. Typically, external compound layer and internal diffusion layer which is much thicker than compound layer was observed in the nitride hardening of ductile cast iron. The relative amount kind of phases formed in the nitrided hardening changed with the change of nitriding conditions. Generally, only nitride phases such as $\gamma^'$($Fe_4N$), or $\varepsilon$($Fe_{2-3}N$) phases were detected in compound layer by XRD analysis. The thickness of compound layer increased with the increase of nitrogen content in the gas composition. The optimum nitriding temperature was obtained at $520^{\circ}C$. The nitrided hardening thickness parabolically with nitriding time(t) and thus, the case hardened layer(d) fits well with the typical parabolic equation ; d=kt. The material constant k for GCD400 nitrided at $520^{\circ}C$ was $0.04919\times10^3{\mu}m.hr^{-1/2}$.
Cubic boron nitride(c-BN) films were deposited on tungsten carbide insert tool by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition(MPECVD) from a gas mixture of triethyl borate$(B(C_2H_5O)_3)$, ammonia $(NH_3)$, hydrogen$(H_2)$ and argon(Ar). The qualities of deposited thin film were investigated by x-ray diffrac-tion(XRD), field emission scanning electron microscopy(FE-SEM) and micro Raman spectroscope. The surface morphologies of the synthesised BN as well as crystallinity appear to be highly dependent on the flow rate of $B(C_2H_5O)_3$ and $(NH_3)$ gases. The deposited film had more crystallized phases with 5 scem of $B(C_2H_5O)_3$ and $(NH_3)$ gases than with 2 sccm, and the phase was identified as c-BN by micro Raman spectroscope and XRD. The adhesion strength were also increased with increasing flow rates of $B(C_2H_5O)_3$ and $(NH_3)$ gases.
The study investigated the influence of current density on the corrosion-protection properties of an AZ91 Mg alloy subjected to plasma electrolytic oxidation coating. The present coatings were carried out under an AC condition at three different current densities, i.e., 100, 150, and $200mA/cm^2$. From microstructural observations, the micro cracks connecting each micro pore were pronounced on the oxide surface of the samples coated at current densities higher than $150mA/cm^2$ since increasing the current density in this study led to an increment in the relative volume fraction of the MgO compound. Based on potentio dynamic polarization and immersion tests, the sample coated at a current density of $100mA/cm^2$ showed superior corrosion resistance.
Tantalum nitride (TaNx) thin films were grown utilizing an inductively coupled plasma (ICP) assisted direct current (DC) sputtering, and 20-100% improved microhardness values were obtained. The detailed microstructural changes of the TaNx films were characterized utilizing transmission electron microscopy (TEM), as a function of nitrogen gas fraction and ICP power. As nitrogen gas fraction increases from 0.05 to 0.15, the TaNx phase evolves from body-centered-cubic (b.c.c.) TaN0.1, to face-centered-cubic (f.c.c.) δ-TaN, to hexagonal-close-packing (h.c.p.) ε-TaN phase. By increasing ICP power from 100 W to 400 W, the f.c.c. δ- TaN phase becomes the main phase in all nitrogen fractions investigated. The higher ICP power enhances the mobility of Ta and N ions, which stabilizes the δ-TaN phase like a high-temperature regime and removes the micro-voids between the columnar grains in the TaNx film. The dense δ-TaN structure with reduced columnar grains and micro-voids increases the strength of the TaNx film.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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