The kinetic mechanism of Hafnia alvei aspartase in the amination direction has been determined in the absence of metal. The initial velocity pattern obtained by varying the concentration of fumarate at several fixed concentrations of NH4+ , shows an intersection on the left of the ordinate at pH 7.0, indicating that the kinetic mechanism is a sequential mechanism in which substrate inhibition by fumarate is observed. The dead-end inhibition pattern by varying the concentration of NH4+ at several fixed concentration of succinate shows an intersection on the left of the ordinate. These data are consistent with random addition of NH4+, or fumarate. The Haldane relationship gives a Keq of 1.18 ${\times}$10-3 M at pH 7.0, which is in agreement with the values obtained from the direct determination of reaction concentrations at equilibrium (6.0 $\pm0.2$${\times}$10-3 M).
This paper reveals theoretical research to the nonlinear dynamic response and initial geometric imperfections sensitivity of the spinning graphene platelets reinforced metal foams (GPLRMF) cylindrical shell under different boundary conditions in thermal environment. For the theoretical research, with the framework of von-Karman geometric nonlinearity, the GPLRMF cylindrical shell model which involves Coriolis acceleration and centrifugal acceleration caused by spinning motion is assumed to undergo large deformations. The coupled governing equations of motion are deduced using Euler-Lagrange principle and then solved by a combination of Galerkin's technique and modified Lindstedt Poincare (MLP) model. Furthermore, the impacts of a set of parameters including spinning velocity, initial geometric imperfections, temperature variation, weight fraction of GPLs, GPLs distribution pattern, porosity distribution pattern, porosity coefficient and external excitation amplitude on the nonlinear harmonic resonances of the spinning GPLRMF cylindrical shells are presented.
본 논문에서는 금속체에 태그를 부착하였을 경우에도 태그 안테나가 전방향성 방사패턴을 갖고 동작하는 PIFA 형 RFID 금속 태그 안테나를 제안하였다. 안테나는 본체와 급전부, 수직 패치와 접지면으로 되어 있으며, 안테나를 소형화시키기 위해 본체와 접지면 사이에 높은 유전율을 가지는 기판을 삽입하였다. 본체는 급전부를 중심으로 대칭적인 구조를 가져 안테나에 흐르는 전류를 반대 방향으로 흐르도록 하였다. 시뮬레이션 결과 제안된 안테나의 임피던스 대역폭 ($S_{11}$ < -10 dB)은 20 MHz (900 ~ 920 MHz)를 나타내었고, 최대 복사 이득은 중심 주파수 912 MHz에서 공기 중과 금속 물체에 부착하였을 때 각각 -10 dBi와 -15 dBi를 가졌다. 또한 이득 편차가 각각 6 dB 이하를 만족시켜 제안된 안테나가 전방향성 복사 패턴을 가지고 동작하는 것을 알 수 있다.
A novel jewelry master pattern manufacturing process which reduce manufacturing steps by employing a Duraform rapid prototyping mold and a low melting alloy has been suggested. The novel process follows the steps of 'jewelry 3D CAD design ${\rightarrow}$ Durafrom RP mold ${\rightarrow}$ low melting alloy master pattern' while the previous process follows more complicated steps of 'jewelry idea sketch ${\rightarrow}$ detailed drawing ${\rightarrow}$ wax carving ${\rightarrow}$ flask ${\rightarrow}$ silver master pattern.' An upper and a lower part of molds have been manufactured of Duraform powder, of which melting point is $190^{\circ}C$. A maser pattern was manufactured by pouring a low melting alloy of Pb-Sn-Bi-Cd, so called Woods Metal, of which melting point is $70^{\circ}C$, into the mold. The master pattern is a shape of a disk of 20mm diameter that contains various design factors. The variations of dimensions, surface roughness, surface pore ratio were measured by an optical microscope, a surface roughness profilometer, and a Rockwell hardness tester. The pattern made of were maeasured by an optical microscope, a surface roughness profilometer, and a Rockwell hardness tester. The pattern made of low melting alloy has sufficient surface hardness, and surface pore ratio to be used as the jewelry master pattern.
Study that form micro pattern by direct ink jet printing method is getting attention recently. Direct ink jet printing spout fine droplet including nano metal particle by force or air pressure. There is reason which ink jet printing method is profitable especially in a various micro-patterning technology. It can embody patterns directly without complex process such as mask manufacture or screen-printing for existent lithography. In this study, research of a technology that ejects fine droplet form of Pico liter and forms metal micro pattern was carried with inkjet head of piezoelectricity drive system. Droplet established pattern while ejecting consecutively and move on the surface at the fixed speed. Patterns formed in ink are mixed with organic solvent and polymer that act as binder. So added thermal hardening process after evaporate organic solvent at isothermal after printing. I executed high frequency special quality estimation of CPW transmission line to confirm electrical property of manufactured circuit board. We tried a large area printing to confirm application possibility of an ink jet technology.
Most manufacturing processes, including welding, create residual stresses. Residual stresses can reduce material strength and cause fractures. For estimating the reliability and aging of a welded structure, residual stresses should be evaluated as precisely as possible. Optical techniques such as holographic interferometry, electronic speckle pattern interferometry (ESPI), Moire interferometry, and shearography are noncontact means of measuring residual stresses. Among optical techniques, ESPI is typically used as a nondestructive measurement technique of in-plane displacement, such as stress and strain, and out-of-plane displacement, such as vibration and bending. In this study, ESPI was used to measure the residual stress on the welded part of butt-welded American Society for Testing and Materials (ASTM) A36 specimens with $CO_2$ welding. Four types of specimens, base metal specimen (BSP), tensile specimen including welded part (TSP), compression specimen including welded part (CSP), and annealed tensile specimen including welded part (ATSP), were tested. BSP was used to obtain the elastic modulus of a base metal. TSP and CSP were used to compare residual stresses under tensile and compressive loading conditions. ATSP was used to confirm the effect of heat treatment. Residual stresses on the welded parts of specimens were obtained from the phase map images obtained by ESPI. The results confirmed that residual stresses of welded parts can be measured by ESPI.
This paper presents to analyze patterns from single and complex malodors using gas sensor array based on metal oxide semiconductors. The aim of research is to identify and discriminate single malodors such as $NH_3$, $CH_3SH$ and $H_2S$ and their mixtures according to concentration levels. Measurement system for analyzing patterns from malodors is constructed by an array of metal oxide semiconductor sensors which are available commercially together with associate electronics. The patterns from sensory system are analyzed by Principal Component Analysis (PCA) which is simple statistical pattern recognition technique. Throughout the experimental trails, we confirmed the experimental procedure for measurement system such as sensors calibration time and gas flow rate, and discriminated malodors using pattern analysis technique.
최근 프리미엄급 스마트폰들은 대부분 메탈 프레임을 채용하고 있으며, 이는 중저가 스마트폰으로 확산되고 있는 추세이다. 하지만, 메탈 프레임은 스마트폰 내 디지털 부품에서 발생하는 전자파 노이즈의 좋은 전달 경로가 되어, 스마트폰 상단부 또는 하단부에 위치한 무선 안테나에 전자파 간섭을 일으키는 원인이 될 수 있다. 본 논문에서는 메탈 프레임에 EBG(Electromagnetic Band Gap) 구조를 적용하여 안테나로의 전자파 간섭을 줄일 수 있는 방법을 제안하였다. $7{\times}6$ 배열의 다중 비아(Multi-via) EBG 구조를 갖는 메탈 프레임을 설계하였으며, 이를 적용할 경우, 메탈 프레임을 통한 표면 전자파 노이즈 간섭을 20 dB 정도 저감시킬 수 있음을 시뮬레이션을 통해 확인하였다.
In recent, various shapes of pattern in micron or nano scale are adapted in many applications due to their good mechanical or optical properties. Light guide panel (LGP) of the LCD is one of important applications for micro pattern and micro prism shape is one of the typical patterns. The size of the surface patterns in most applications is decreasing to the order of micron or even under micron. On the other hand, the area to be patterned keeps enlarging. These two trends in patterned products require tooling micro patterns on large surface, which has still many technical problems to be solved mainly due to pattern size and the tooling area. In this study, we fabricated prism shape of patterns using diamond cutting tool on some metal core and plastic core like PMMA. Some cutting conditions were investigated including cutting force, cutting depth and speed for different core materials.
In this study, very fine photoresist pattern was examined using the image reversal process. And very fine photoriesist pattern (less than 0.2um) was obtsined by optimizing the exposure and reversal baking condition of photoresist. The produced pattern does not show the loss of thickness, and has a sparp negative edge profile. also, the ion implanted 0.25um T-shaped gate MESFET was fabricated using this resist pattern and the directional evaporation of gate metal. The fabricated MESFET has the maximum transconductance of 302 mS/mm, and the threshold voltage of -1.8V, and the drain saturation current of this MESFET was 191 mA/mm.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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