The market demand of display devices is drastically increasing in the information technology age. The research on OLED (Organic Light Emitting Diodes) display with the luminescence in itself is being more paid attention than LCD (Liquid Crystal display) with the light source from the back. The vapor deposition process is most essential in manufacturing OLED display. The temperature distribution of the linear cell in this process is closely related to securing the uniformity of organic materials on the substrate. This work analyzed the temperature distribution depending on the intervals between the crucible and the heating band as well as on the amount of the heat flux from the heating band. Moreover, the roles of the water jacket and the configuration of the cover within the linear cell were examined through the temperature analysis for six configurations of the linear cell. Under the above temperature analysis, the variations in the intervals and the amount of the heat flux were considered to have an effect on building the uniform temperature distribution within the crucible. It is predicted that the water jacket and the adequate configuration of the cover will prevent the blowout and clogging phenomena, respectively. The results can be used as the fundamental data for designing the optimal linear cell.
Hwang, Donghyun;Sohn, Young W.;Seol, Tae-ho;Jeon, YongHo;Lee, Moon G.
한국생산제조학회지
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제24권2호
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pp.155-159
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2015
Light emitting devices (LEDs) are widely used in the liquid crystal display (LCD) industry, especially for LCD back light units. Therefore, much research has been performed to minimize manufacturing costs. However, the current process does not process LED chips from broken substrates even though the substrate is expensive sapphire wafer. This is because the broken substrates lose their alignment marks. After pre-processing, LED dies are glued onto blue tape to continue post-processing. If auxiliary alignment marks are stamped on the blue tape, post-processing can be performed using some of the LED dies from broken substrates. In this paper, a novel stamper module that can stamp the alignment mark on the blue tape is proposed, designed, and fabricated. In testing, the stamper was reliable even after a few hundred stamps. The module can position the stamp and apply the pattern effectively. By using this module, the LED industry can reduce manufacturing costs.
As a Basic study to implement a wide-band photonic switching sysetm, we proposed a scheme of free-space-division-multiplexed photonic switching based on a holographic interconnectio method and carried out simple experiments on it. First, we recorded holgraphic interconnection element array for nonblocking optical interconnections. Just a single stage of the array realizes full optical interconnections between NN${\times}$NN input prots and NN${\times}$NN output ports in 3-D space. Next, in reading of the array for optical internnections, we showed that the zeroth-order diffacted beam could be eliminated in the output port by introducing a right angle prism. The elimination of the zeroth-order diffracted beam reduces optical noise in the output ports and provides conveniences of interconnection control in our scheme. Finally, from the experiments on ON-OFF switching of the optical interconnection paths one by one using a spatial (display of the liquid crystal telecision), we showed the feasibility of photonic wsitching based on the holographic interconnection method. We also estimated approximately the maximum interconnectio scale that can be realized without difficulty with current optical devices.
The polycrystalline silicon thin film transistors (poly-Si TFT) are the most promising candidate for active matrix liquid crystal displays (AMLCD) for their high mobilities and current driving capabilities. The leakage current of the poly-Si TFT is much higher than that of the amorphous-Si TFT, thus larger storage capacitance is required which reduces the aperture ratio fur the pixel. The offset gated poly-Si TFTs have been widely investigated in order to reduce the leakage current. The conventional method for fabricating an offset device may require additional mask and photolithography process step, which is inapplicable for self-aligned source/drain ion implantation and rather cost inefficient. Due to mis-alignment, offset devices show asymmetric transfer characteristics as the source and drain are switched. We have proposed and fabricated a new offset poly-Si TFT by applying photoresist reflow process. The new method does not require an additional mask step and self-aligned ion implantation is applied, thus precise offset length can be defined and source/drain symmetric transfer characteristics are achieved.
The process of manufacturing printed electronics using printing technology is attracting attention because its process cost is lower than that of the conventional semiconductor process. This technology, which offers both a lower cost and higher productivity, can be applied in the production of organic TFT (thin film transistor), solar cell, RFID(radio frequency identification) tag, printed battery, E-paper, touch screen panel, black matrix for LCD(liquid crystal display), flexible display, and so forth. In general, in order to implement printed electronics, narrow width and gap printing, registration of multi-layer printing by several printing units, and printing accuracy of under $20\;{\mu}m$ are all required. These electronic products require high precision to the degree of tens of microns - in a large area with flexible material, and mass productivity at low cost. As such, the roll-to-roll printing process is attracting attention as a mass production system for these printed electronic devices. For the commercialization of this process, two basic electronic ink technologies, such as conductive ink and polymers, and printing equipment have to be developed. Therefore, this paper addressed basis design and test to develop fine patterning equipment employing the roll-to-roll printing equipment and electronic ink.
한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.701-705
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2002
In order to realize full color display, two approaches were used. The first method is the patterning of red, green, and blue emitters using a selective deposition. Another approach is based on a white-emitting diode, from which the three primary colors could be obtained by micro-patterned color filters. White-light-emitting organic light emitting devices (OLEDs) are attracting much attention recently due to potential applications such as backlights in liquid crystal displays (LCDs) or other illumination purposes. In order for the white OLEDs to be used as backlights in LCDs, the light emission should be bright and have Commission Internationale d'Eclairage (CIE) chromaticity coordinates of (0.33, 0.33). For obtaining white emission from OLEDs, different colors should be mixed with proper balances even though there are a few different methods for mixing colors. In this study, we will report a white organic electroluminescent device based on an incomplete energy transfer. In which the blue and green emission come from the same layer via incomplete energy transfer.
Al doped Zinc Oxide(ZnO:Al) films, which is widely used as a transparent conductor in optoelectronic devices such as solar cell, liquid crystal display, plasma display panel, thermal heater, and other sensors, were prepared by using the capacitively coupled DC magnetron sputtering method. The influence of the substrate temperature, working gas pressure and discharge power on the electrical, optical and morphological properties were investigated experimentally. The consideration on the effect of doping amounts of Al on the electrical and optical properties of ZnO thin film were also carried out. ZnO:Al films with the optimum growth conditions showed resistivity of $9.42{\times}10^{-4}\;{\Omeg}-cm$ and transmittance of 90.88% for 840nm in film thickness in the wavelength range of the visible spectrum.
Thin-film transistor (TFT) arrays for an x-ray detector require quite different design concept from that of the conventional active-matrix liquid crystal devices (AM-LCDs). In this paper anew design of TFT array which uses only SiNx for passivation layer is described to meet the detector performance and the product availability simultaneously. For the purpose of optimizing the design parameters of the TFT array, a Spice simulation was performed. As a result, some parameters, such as the TFT width, the data line capacitance, and the storage capacitance, were able to be fixed. The other parameters were decided within a permissible range of the TFT process especially the photolithography process and the wet etch process. Then we adapted the TFT array which had been produced by the proposed design to our prototype model (FDXD-1417 and evaluated it clinically by comparing with a commercial model (EPEX, Hologic, Beford, USA). The results say that our prototype model is slightly better than EPEX system in chest PA images. So we can prove the technical usefulness and the commercial values of the proposed TFT design.
Indium tin oxide (ITO) provides high electrical conductivity and transparency in the visible and near IR (infrared) wavelengths. Thus, it is widely used as a transparent electrode for the fabrication of liquid crystal displays (LCDs) and organic light emitting diode displays (OLRDs), photovoltaic devices, and other optical applications. Lasers have been used for removing coating on polymer substrate for flexible display and electronic industry. In selective removal of ITO layer, laser wavelength, pulse energy, scan speed, and the repetition rate of pulses determine conditions, which are efficient for removal of ITO coating without affecting properties of the polymer substrate. ITO coating removal with a laser is more environmentally friendly than other conventional etching methods. In this paper, pattering of ITO film from polymer substrates is described. The Yb:KGW femtosecond laser processing system with a pulse duration of 250fs, a wavelength of 1030nm and a repetition rate of 100kHz was used for removing ITO coating in air. We can remove the ITO coating using a scanner system with various pulse energies and scan speeds. We observed that the amount of debris is minimal through an optical and a confocal microscope, and femtosecond laser pulses with 1030nm wavelength are effective to remove ITO coating without the polymer substrate ablation.
In recent years, attempts have been made to greatly improve the display quality of active-matrix liquid crystal display devices, and many techniques have been proposed to solve such problems as gate signal delay, feed-through voltage and image sticking[1-3]. To improve these problems which are caused by the feed-through voltage, we have evaluated new driving methods to reduce the feed-through voltage. Two level gate-pulse was used for the gate driving of the cst-on-common structure pixels. These gate driving methods offer better feed-through characteristics than conventional simple gate pulse. Optimized step signal will compensate by step pulse time and voltage. The evaluation of the suggested driving methods were performed by using a TFT-LCD array simulator PDAST which can simulate the gate, data and pixel voltages of a certain pixel at any time and at any location on a TFT array. The effect of the new driving method was effectively analyzed.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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