• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제10권4호
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• pp.53-60
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• 2003

CCD(Charge-Coupled Device) wafer와 같이 표면이 polymer 성분의 micro lens로 구성되어있는 경우 passivation 막을 도포하지 않는 것이 보통인데, 이때 particle이 lens 표면에 쉽게 달라붙는 현상이 나타나게 된다. 특히 sawing 하면서 발생하는 particle은 치명적인 불량을 유발한다. 본 연구에서는 sawing에서 발생한 particle을 효과적으로 flushing하기위한 방안으로 측면노즐과 중심노즐의 분사위치, 분사각도, 퍼짐각도를 최적화 하고, 아울러 flushing 노즐을 추가한 새로운 형태의 wafer saw를 도입하였다. 개선된 saw를 적용하여 실험한 결과 particle로 인한 CCD chip의 불량률이 9.l%로부터 0.63%로 현격하게 개선되었음을 확인할 수 있었다.